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近年来，随着我国晶圆厂持续扩产扩建等因素，我国CMP抛光液需求持续增长，市场规模逐年提升，由2017年的14.9亿元增长至2023年的29.6亿元，年复合增长率约为12.12%，行业需求增速显著高于全球平均增速水平。华经产业研究院研究团队使用桌面研究与定量调查、定性分析相结合的方式，全面客观的剖析CMP抛光液行业发展的总体...
近年来,随着我国晶圆厂持续扩产扩建等因素,我国CMP抛光液需求持续增长,市场规模逐年提升,由2017年的14.9亿元增长至2023年的29.6亿元,年复合增长率约为12.12%,行业需求增速显著高于全球平均增速水平。 相关报告:华经产业研究院发布的《2024-2030年中国CMP抛光液行业市场发展监测及投资前景展望报告》 ...
CMP是一种集化学和机械过程于一体的表面处理技术,被广泛应用于半导体制造业和光学领域。CMP抛光液在平坦化材料的表面上形成了化学反应,并借助机械力来达到高度精细的平整度和光洁度。 CMP抛光液的成分通常包括了酸性或碱性的化学物质以及磨料。酸性溶液的使用可以去除表面的氧化膜,清除杂质,而碱性溶液则可以去除表面的...