作为国内唯一一家全面掌握抛光垫全流程核心研发和制造技术的CMP抛光垫供应商,公司抛光垫产品基本实现了对国内各制程全覆盖。
如图1所示,本发明是一种用于cmp制程的清洗装置,包括依次连接的前段化学品清洗装置4、超纯水超声波洗净装置1、超纯水漂洗装置2以及后续干燥装置5,且超纯水超声波洗净装置1与超纯水漂洗装置2分别连接有功能性超纯水加气产生装置3。其中: 超纯水超声波洗净装置1 该装置包括功能性超纯水超声波洗净槽11,用于清洗cmp制程晶...