氯元素 XPS 主峰:Cl2p 干扰峰:Se LMM, As3s 常见化学状态的结合能: 化学状态结合能 Clp3/2/eV 有机Cl200 金属氯化物~198.5–199 实验信息 当样品中的硒或砷浓度较高时,同时采集 Cl2s 及 Si2p 峰或仅采集 Cl2s 峰。 含有Cl 的聚合物材料可能在 X 射线照射或氩离子溅射过程中发生降解,从而...
表面Li3+信号强度最低,在沉积~400s后,Li3+的强度迅速增加,表明体相中为未反应的锂金属。 Ar+溅射深度X射线光电子能谱(XPS)显示,在整个刻蚀过程中,都观察到Li-Al合金和LiCl所对应的峰(图1h)。随着刻蚀深度的增加,Li-Al合金和LiCl的峰值强度逐渐降低,表明Li-Al合金和LiCl在表面分布更多,而Li-Al合金表面和基...
此外,Cl-Ag HF和Ag HF Ag 3d光谱的XPS (图1G上半部分) 显示,在368.2 eV和374.2 eV结合能处分别有Ag 3d5/2和Ag 3d3/2峰,表明两种样品表面均具有金属Ag0特征,与商用Ag粉末相同。Cl-Ag HF上的Cl 2p3/2和Cl 2p1/2峰 (图1G底部) 可以表征Cl–在表面的吸附,而在Ag HF表面没有观察到Cl 2p3/2和...
根据XRD结果,MnN3Cl@BCN和MnN3OH@BCN相比于BCN具有更高的石墨化程度, MnCl2的引入使材料形成了一定量的微孔,而且MnN3Cl@BCN和MnN3OH@BCN具有更高的比表面积,因此可以提供更多的催化活性位点。结合XPS和XAS研究了MnN3Cl@BNC中Mn单原子的结合态和配位信息:在 MnN3Cl@BNC 中,Mn原子与大约 3个N原子和1个Cl...
图1 (A) KCl电解液中Ag HF电极上CO2电还原过程示意图。Ag HF的(B)截面和(C, D)外表面的SEM图像。(E)Ag HF在不同电解质中的伏安图。(F)Ag 3d和Cl 2p在Ag HF和Cl-Ag HF上的XRD谱图,(G)XPS谱图。(H)参考Ag、Ag HF、Cl-Ag HF和参考...
XPS也证明了Cl的存在(图2b),近表面区域的Cl含量可达到6.7 wt%。Cl-RD-Cu2O的Cl 2p光谱在198.3 eV处显示Cl 2p3/2峰,在199.9 eV处显示Cl 2p1/2峰,间距为1.6 eV,峰面积比约为2:1(图2b),这表明Cl通过取代晶格中的氧原子并与铜原子键合而进入Cu2O晶格。实际上,在68 cm-1和196 cm-1的拉曼峰也证实了...
我做了一个Cl的XPS测试，结果在198eV，请问是2p 还是2P3 这两个有什么区别？
此外,Cl-Ag HF和Ag HF Ag 3d光谱的XPS (图1G上半部分) 显示,在368.2 eV和374.2 eV结合能处分别有Ag 3d5/2和Ag 3d3/2峰,表明两种样品表面均具有金属Ag0特征,与商用Ag粉末相同。Cl-Ag HF上的Cl 2p3/2和Cl 2p1/2峰 (图1G底部) 可以表征Cl- 在表面的吸附,而在Ag HF表面没有观察到Cl 2p3/2...
摘要: 对a-Si:(H,C1)薄膜进行了XPS和UPS测量,样品是利用辉光放电方法在SiH_4+H_2加SiCl_4+H_2混合气体中生长的.XPS的结果表明,根据Cl 2p发射峰和Si2p(或2s)发身峰的强度可以定量地确定Cl与Si的原子浓度比;UPS的结果可以解释为在这种a- Si:H:Cl中同时存在Si-H和Si-Cl结合键.关键词:...
▲Figure 4. S 2p (a) and Li 1s (b) XPS spectra at two interfaces (NCM/Li6PS5Cl interface and Li6PS5Cl/Li interface) of NCM/Li6PS5Cl/Li cell: before cycling (“uncycled”), after the 2nd charge (“2ndC”) and discharge (“2nd D”), after the 50th charge (“50th C”) and...