Bilevel high resolution photolithographic technique for use with wafers with stepped and/or reflecting surfaces We have investigated the feasibility of a two﹍evel scheme to obtain steep profile, thick resist, and high resolution patterns over stepped and/or reflecti... Tai,L K. - 《Journal of...
用爱心浇灌"迟开的花朵"——如何转化小学班级学困生 才能促进学生整体综合素质的提升,从而为班级建设的稳定发展创造良好的条件.而要想实现上述目标,班主任必须要对学困生付出更多的耐心与爱心,促使那些"迟开的花朵"能够... 罗佩专 - 《中外交流》 被引量: 0发表: 2021年 用"爱心,耐心和责任心"浇灌学生成长 ...
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百度试题 结果1 题目2.(用方程表示数量关系)看图列方程。(1)(2)bm xkg xkg xkg xkg100 m44kg方程:方程: 相关知识点: 试题来源: 解析 (1)2b+15=100(2)5x+4=44 反馈 收藏
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看图列方程并解答。(1)一bm15m—bm100m-bm-─.]5m. -bm-─ -100 m- (2)46.5元x元x元x元156元46.5元x元x元x元156元 答案 12b+15=1002b=100-152b=85℃=42.5答:b是425.m.246.5+3c=1563x=156-46.53x=109.5c=109.5÷3c=36.5答:每顶帽子36.5元. 相关推荐 1看图列方程并解答。(1)...
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百度试题 结果1 题目4.看图列方程。(1)|bm+15m+-bm(2)-100 m xkg xkg xkg xkg xkg2kg2kg44 kg 相关知识点: 试题来源: 解析 4.(1)2b+15=100(2)5r 反馈 收藏
解答解:设M(x,y),因为A(-5,0),B(5,0),直线AM,BM相交于点M,且它们的斜率之积是-4949, 所以yx−5∙yx+5yx−5•yx+5=-4949, 化简得x225x225+9y21009y2100=1(x≠±5) 故选:A. 点评本题重点考查轨迹方程的求解,解题的关键是正确表示出直线AM、BM的斜率,利用条件建立方程. ...