如果必须使用不含金属离子的显影液,我们建议使用基于tmah基的az®326 mif,az®726 mif或az®826mif显影剂(未稀释)。 去胶剂——适用于az ® 4500光刻胶 对于非交联的光刻胶薄膜,可以使用az®100作为去胶剂,dmso或其他常见的有机溶剂作为剥离剂。如果光刻胶膜已交联(例如,在干法蚀刻等离子工艺或离子注...
一、 物品與廠商資料 物品名稱 : AZ 300MIF DEVELOPER 顯影劑 物品編號 : 製造商或供應商名稱: 供應商 - 台灣科萊恩股份有限公司 製造商 – Clariant (Japan) K.K. Technical & Production Dept. 製造商或供應商地址: 供應商 - 台北市建國北路一段 96 號 5 樓 工廠 - 3810 Chihama Daito-cho, Ogasa...
AZ(R) 726 MIF Developer
The solubility of the polymer of Example 2 and photoresist formulations was evaluated in PGME (propylene glycol monomethyl ether), MIF Developer (from AZ Electronic Materials) and water. Formulations were spin coated onto wafers at 3000 rpm and baked at the temperatures shown in the table (Table...
Enterprise platform AI-powered developer platform Available add-ons Advanced Security Enterprise-grade security features Copilot for business Enterprise-grade AI features Premium Support Enterprise-grade 24/7 support Pricing Search or jump to... Search code, repositories, users, issues, pull re...
物質安全資料表一、 物品與廠商資料 物品名稱 : AZ 300MIF DEVELOPER 顯影劑 物品編號 : 製造商或供應商名稱: 供應商 - 台灣科萊恩股份有限公司 製造商 – Clariant (Japan) K.K. Technical & Production Dept. 製造商或供應商地址: 供應商 - 台北市建國北路一段 96 號 5 樓 工廠 - 3810 Chihama ...