The TWINSCAN NXT:1470 features a variable-NA (0.70 – 0.93) Carl Zeiss Starlith 4X reduction lens. Compared to our previous dry ArF lithography systems, it includes an additional lens element and enhanced improvements for lens heating control. 03. Imaging performance The TWINSCAN NXT:1470 is bui...
在2024年上海召开的进博会上，ASML还面向国内客户展示了其受欢迎的几款DUV机型——NXT: 1470、NXT: 870。ASML官方资料显示，这两款从XT气浮平台升级至NXT磁浮平台的干式DUV产品，能显著提升产能并降低单位成本，其中NXT:1470 是ASML 第一款应用NXT平台并可实现每小时晶圆产量达300片以上的机型。前端3D集成带来新机会...
2024年中国国际进口博览会上，ASML展示了3款旗舰DUV光刻机，包括TWINSCAN NXT: 1470、NXT: 870和即将推出的XT: 260，这些机型吸引了广泛关注。其中，NXT: 1470是一款产能强大的双平台ArF干式光刻设备，成为业界首款每小时晶圆产量突破300片的系统；而NXT: 870则是一款高效能的KrF光刻设备，其每小时晶圆产量更是高达...
关于ASML的态度，其实我们也没必要在意，你如果想卖能卖，我们如今还需要，也就会购买。但我们也已经明白，依然外部根本不是长久之计，只有突破国产才是根本。还有一点需要我们特别关注的，那就是这次ASML着重推介的一款NXT:1470的DUV光刻机，其参数刚比我们突破的国产先进一些，应该要警惕他们倾销打压的可能。因为美西...
ASML 二手翻新ARF光刻机NXT:1470采用193nmARF光源,分辨率57nm,产能300wph。 主要特点和优势 TWINSCAN NXT:1470 193nm步进扫描系统是第一款基于我们的高生产率、高精度NXT平台的“干式”光刻系统。因此,它是第一个实现优于 4.5 nm 的产品覆盖层的干法系统,也是第一台能够每小时处理超过 300 个晶圆的光刻机。
而在ASML所有DUV产品中，NXT:1470并不是最先进的，像最新的NXT:2100i的分辨率达到了38nm，套刻精度0.9-1.3nm，最新的极紫外光刻机（EUV）的分辨率更低至8nm。今年进博会上ASML的展台 图源：ASML 最近一年来，ASML来自中国大陆的收入比例持续处于高位。根据2024年三季报，该季度ASML中国大陆销售额占全球收入的...
在2024年上海召开的进博会上,ASML还面向国内客户展示了其受欢迎的几款DUV机型——NXT: 1470、NXT: 870。ASML官方资料显示,这两款从XT气浮平台升级至NXT磁浮平台的干式DUV产品,能显著提升产能并降低单位成本,其中NXT:1470 是ASML 第一款应用NXT平台并可实现每小时晶圆产量达300片以上的机型。
半导体最强战队ASML：硬核来华，深耕中国市场不动摇 2024年第七届进博会上，荷兰光刻机巨头ASML带来了一场科技盛宴，首次向公众展示了其全景光刻解决方案。作为全球光刻机行业的领军企业，ASML此次重磅推出三款深紫外光刻机（DUV）产品：NXT1470、NXT870和XT260，以及一款量测设备eScan 1100。从展台布置即可看出ASML对...
TWINSCAN NXT: 1470 (图源:ASML) ASML认为,DUV技术将在未来的半导体产业中继续发挥主力作用,特别是在支持模拟芯片、功率器件和传感器等成熟制程的制造中。 半导体的未来:性能与能耗的博弈 在未来的半导体产业发展过程中,从技术上来看,未来半导体产业的发展趋势可以归结为两大核心目标: ...
这其中,NXT:1470光刻机的照明波长为193nm,分辨率为≤57nm,套刻精度≤4.5nm。而前不久,中国工信部推广的国产氟化氩光刻机,照明波长为193nm,分辨率≤65nm,套刻≤8nm。 换句话说,ASML这次介绍的NXT:1470光刻机,技术指标刚好稍高于国产氟化氩光刻机。