ASML光刻机型号大全ASML，即阿斯麦（Advanced Semiconductor Materials Lithography），是全球领先的光刻机供应商，为半导体行业提供高精度、高效率的光刻解决方案。ASML的光刻机产品种类繁多，涵盖了不同的技术节点和应用领域。以下是ASML光刻机的主要型号及其特点。1. PAS 5500/8000系列：PAS 5500：这款光刻机主要针对...
快科技9月7日消息，ASML宣布，将在今年底发货第一台支持高NA(数值孔径)的EUV极紫外光刻机，型号“Twinscan EXE:5000”。NA数值孔径是光刻机光学系统的重要指标，直接决定了光刻的实际分辨率，以及最高能达到的工艺节点。ASML现有最先进的EUV光刻机是NEX:3400C、NEX:3400D，NA只有0.33，对应的分辨率为13nm，可以...
大家好,今天我们来聊聊ASML的光刻机型号。ASML,全名ASML Holding NV,是一家荷兰跨国公司,成立于1984年,是半导体行业最大的设备供应商,也是全球唯一一家生产极紫外光刻机(EUV)的厂商。ASML的光刻机经历了几个重要的发展阶段: PAS 2000:首次引入自动步进对准技术。 PAS 5000:提高了分辨率和叠层精度。 PAS 5500:19...
查看详情 中紫外步进式光刻机 尼康(Nikon)NSR-SF130 面议 查看详情 500纳米精度步进光刻机NSR-2205i9C 面议 查看详情 双级ARF光刻机 ASML AT:1100 300mm晶圆上100nm批量生产 ￥1.00 查看详情 东精精密(ACCRETECH)探针台 面议 查看详情 SART/DNA GSM-R LTE-R信令分析仪 E1/T1/GE/10GE通信测试和测量...
ASML AT:225C 0.13um 0.26um 29×29mm 5英寸/6英寸/8英寸 卤素光源 以上仅列举了部分常见的阿斯迈尔光刻机型号及其主要参数,具体型号和参数也与不同客户的需求有关。 三、阿斯迈尔光刻机的应用领域 阿斯迈尔光刻机主要应用于半导体微电子芯片的制造过程中,生产各种类型的集成电路、微处理器、存储...
ASML的高端DUV光刻机型号包括NXT:1980Di、2000i、2050i、2100i。然而，由于荷兰半导体禁令规则的限制，目前只有NXT:1980Di这一型号可以卖给中国。因此，ASML急需解决这一问题，以便向中国市场继续销售其他型号的高端DUV光刻机。ASML的公告 ASML已经宣布，根据荷兰政府的许可证要求，他们可以在2023年内继续向中国销售高端...
上期文章中,我们列举了ASML的G线,i线光刻机型号,见文章: 本期,我们要罗列下ASML的EUV光刻机的型号及主要技术参数。 ASML公司的EUV介绍极紫外光刻(EUV) 技术使用波长为13.5纳米的光。高能激光聚焦在熔融锡的微小液滴上,产生等离子体并发射出EUV光。锡滴的温度可达到 220,000 摄氏度——是太阳平均表面温度的 40...
ASML已经正式通过官网发布消息，称美主要限制先进工艺的半导体设备出货，工艺集中在14nm以下。目前，DUV光刻机主要有三种型号，分别是2050i、2000i和1980Di，其中，前两者主要都是用于制造14nm以下工艺的芯片，而1980Di的单次曝光精度为38nm。ASML强调型号为1980Di DUV光刻机出货将不会受到影响，主要是用于14nm以上...
根据ASML官网消息，其浸润式DUV光刻机主要包括NXT:2100i、NXT:2050i、NXT:2000i和NXT:1980Di，此次荷兰政府部分撤销出口许可证的两种型号DUV光刻机，为其继NXT:2000i之后推出的两种最新的浸润式DUV光刻机。除了EUV光刻机、浸润式DUV光刻机，ASML还生产销售干式ArF（氟化氩）光刻机、KrF（氟化氪）光刻机以及i线...