The paper introduces a novel fusion architecture named attention-based residual fusion network (ARF-Net) to incorporate two heterogeneous aesthetic feature vectors. The proposed model yielded a 99.38% identification accuracy on the Aesthetic Image Audio 32 (AIA32) dataset and 98.02% identification ...
据报道,2024年中国在光刻胶开发方面取得了显著进展,这得益于政府倡议和本土芯片制造商不断增长的需求。 半导体光刻胶按曝光波长分类,包括宽带紫外(300-450nm)、g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)、EUV(13.5nm)和电子束类型。KrF、ArF和EUV光刻胶是所有光刻胶中最纯净和最先进的。全球市场由...
南大光电:ArF光刻胶原材料不存在依赖进口情况 9月14日,南大光电披露最新调研纪要称,公司用于生产ArF光刻胶的核心原材料,由公司自主研发,对于国内具备供应能力的原材料,通过外购解决。目前原材料不存在依赖进口的情况。 在MO源产品方面,南大光电MO 源产品国内市占率在 40%以上。MO 源主要应用于 LED 行业,目前行业已...
然而,现实情况仍然是,“尼康的Arf光刻机业务高度依赖中国大陆客户,而且由于英特尔的麻烦,可能会变得更加依赖中国大陆客户”,他补充道。(校对/孙乐)
3月21日,南大光电在投资者互动平台表示,公司控股子公司宁波南大光电材料有限公司研发的ArF光刻胶,已在下游客户存储芯片50nm和逻辑芯片55nm技术节点的产品上通过认证,成为国内通过客户验证的第一只国产ArF光刻胶。
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南大光电(300346.SZ)9月12日在投资者互动平台表示,公司ArF光刻胶的目标客户为国内集成电路芯片制造企业。 截至发稿,南大光电市值为181.27亿元,股价为33.34元/股,较前一日收盘价下跌2.37%。
ArF 光刻胶验证阶段主要分为 PRS(光刻胶性能测试)、STR(小试)、MSTR(批量验证)及 Release(通过验证)四个阶段。据南大光电披露,目前,南大光电已有两款胶通过客户验证,多款胶正在验证过程中。验证中的 ArF 光刻胶因开始时间不一,验证进度也不同,其中有两款胶进入 MSTR 阶段。
近日,卓芯杰(苏州)半导体材料科技有限公司国产光刻胶项目落户苏州太仓。该项目由新加坡南洋理工大学刘颖果博士团队领衔,旨在突破半导体材料“卡脖子”技术,研发193nm ArF光刻胶产品。
ARF时,导致低血钠的主要原因是:( ) A、钠丢失过多 B、代谢障碍使“钠泵效应下降” C、肾小管功能障碍 D、水潴留 E、代谢性酸中毒