ArF与ArFi只有一层水的差距，但也因为这一层水，可以制造的芯片就不一样了。普通干式DUV光刻机，最小可以支持到65nm工艺。而ArFi这种浸润式光刻机，最小可以支持到7nm工艺，不过需要采用多重曝光技术，这些曝光技术，主要有LELE，LFLE，以及SADP、SAQP这4种，这里就不一一展开去谈了。以前ASML的DUV光刻机，也包...
ArF(氟化氩)准分子激光源是DUV(深紫外光刻技术)中的一种关键光源。具体来说,ArF激光器发射的波长为193纳米,并且通过浸没式光刻技术可以将实际波长缩短至约134纳米。这种技术使得ArF激光器在半导体制造中能够实现高精度的图案转移,从而支持从45nm到7nm甚至更小的制程节点。 此外,ArF激光器不仅用于传统的干法光刻,还广...
在半导体产业的快速发展中,ArF光刻胶作为关键材料,正引领着芯片制造技术的革新。随着摩尔定律的不断推进,ArF光刻胶的重要性日益凸显,其在7nm及以下先进制程中的不可替代性,使其成为市场关注的焦点。本文将深入探讨ArF光刻胶的市场增长潜力、显著优势、全球市场规模、主要市场参与者、地区市场特点以及未来的发展机遇与...
近日,来自沈阳药科大学的研究者们在Acta Pharm Sin B.杂志上发表了题为“Arf6 as a therapeutic target: Structure,mechanism, and inhibitors”的综述,本文综述了Arf6在未来癌症治疗中的综合功能,并进一步强调了Arf6在耐药性中的关键作用,并对其在癌症治疗中的前景进行展望。 与其他小的GTP酶一样,Arf6以两种形式...
为满足更高集成度更精密的集成电路制造,光刻环节必须采用更短波长的光源,光刻分辨率也相应提高——光刻机的曝光光源从宽谱紫外线发展到I线(365nm)、KrF线(248nm)、ArF线(193nm)以及目前最前沿的EUV(13.5nm)光源,而不同的光源需要使用不同的光刻胶。ArF(193nm)光源对应曝光的是ArF光刻胶,而集成电路工艺在从...
全球与中国ArF光刻机市场现状及未来发展趋势 未来几年，全球ArF光刻机市场的年复合增长率（CAGR）预计为7.2%，这一增速在高科技设备市场中表现相当亮眼。这一增长动力主要来源于以下几个方面：（1）半导体产业持续发展：随着5G、物联网、人工智能、汽车电子等新兴领域的快速发展，对高性能、低功耗芯片的需求急剧增加...
生长素应答因子(auxin response factors,ARFs)是植物中重要的一类转录因子,具有3个主要结构域:位于N端植物特异性B3型DNA结合域(DBD),具有高度保守性,仅使用DBD蛋白序列构建的系统发育树与使用完整蛋白序列构建的系统发育树非常相似,表明该结构域有助于功能特异性[10-11],此结构域能与生长素应答基因启动子中的TGTCTC...
细分市场分析 基于最终用途，全球氟化氩（ArF）单体市场细分为半导体行业、医疗行业和科学研究。2024年，半导体行业占据最大份额。氟化氩（ArF）单体用于光刻胶，并被认为将扩展到用于极紫外（EUV）的化学品。半导体工业是ArF单体的主要消费者，因为它们在半导体光刻中起着关键作用。摩澜数智出版的氟化氩（ArF）单体市场...
颠茄为茄科颠茄属植物颠茄Atropa belladonnaL.的干燥全草[1]。原产于欧洲,现在我国河南、山东、湖南等省有栽培[2]。颠茄主要药效成分是以莨菪碱和东莨菪碱为主的次生代谢产物,主要用于胆、胃绞痛和晕动症以及迷走神经兴奋的导致的多汗、呕吐...
ARF=前面+右侧+足侧 HR，对应的就是HL，那就是头侧和左侧，头侧好理解，左侧右侧意义何在，因为人...