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ALN-100G日本ARROW回转灯AHMCK-200R-D LRX-24Y-A 性能 网上价格不是具体价格 重要提示:我们是进口备件,需要实时报价 欢迎来电咨询 南京玖宝机电设备有限公司王先生 TEL:1377-0506-113/ :321-502-7595 是比传统的灯泡式,LED塔便宜的冲击的价格。
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WS-ALN100/150 倒片机:晶圆全自动取放,人工替代,良好控制颗粒,高精度、高柔性六轴机械手,更稳定、更可靠,半导体非接触式伯努利吸盘,吸附均匀,低破率、更安全。稼动率高,有效节约客户成本。 3. 设备特点 百晶圆尺寸 4、6 英寸,划伤率 ≤0.03%,通讯响应时间 <0.5,适用域,化合物半导体。百科:倒片机在半...
直播 贴吧首页登录入口吧 hlkn华林科纳 《炬丰科技-半导体工艺》氮化铝蚀刻工艺文章:氮化铝蚀刻工艺编号:JFKJ-21-025作者:炬丰科技氮化铝 (AlN) 是一种很有前途的衬底材料,可用于富铝 III 族氮化物的外延,可用于例如在深紫外光电和高功率微波设备中...然而,到目前为止,对AlN单晶不同表面的蚀刻现象还没有详细...
Crystal IS在其位于纽约绿岛的总部生产块状单晶氮化铝基板，并于2023年底开始销售用于射频和功率器件研发的2英寸直径基板。这一100毫米直径的里程碑加速了氮化铝基板新应用的开发。AlN衬底上的新应用的开发，因为它与使用替代材料的射频和功率器件的现有制造生产线融为一体。该公司计划今年向主要合作伙伴提供直径为100毫米...