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对于AlN氮化,常用的方法包括物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)、分子束外延(MBE)和气体放电法等。其中,CVD方法是最常用的方法之一。CVD方法中,粉末氧化铝和氮化源(如NH3)在高温(>1000°C)和高气压(>50 Torr)下反应,生成氮化铝。这种方法可以制备高纯度、高质量和高均匀性的AlN。此外,MBE方法也是一种可行的...
②薄膜金属 化法,一般采取离子镀、真空蒸镀、溅射镀膜等 PVD 方法在 AIN 陶瓷基板表层上沉 积电导率高、不易氧化的金属 Ti,然后在 Ti 层上沉积 Ag、Pt、Ni、Au 等金属后, 进行热处理,制备金属薄膜。③化学镀金属化法,利用还原剂将溶液中的金属离子还 原在催化活性的物体表面而形成金属镀层,镀层与基体结合...
薄膜金属 化法,一般采取离子镀、真空蒸镀、溅射镀膜等 PVD 方法在 AIN 陶瓷基板表层上沉 积电导率高、不易氧化的金属 Ti,然后在 Ti 层上沉积 Ag、Pt、Ni、Au 等金属后, 进行热处理,制备金属薄膜。化学镀金属化法,利用还原剂将溶液中的金属离子还 原在催化活性的物体表面而形成金属镀层,镀层与基体结合机理主...
②薄膜金属 化法,一般采取离子镀、真空蒸镀、溅射镀膜等 PVD 方法在 AIN 陶瓷基板表层上沉 积电导率高、不易氧化的金属 Ti,然后在 Ti 层上沉积 Ag、Pt、Ni、Au 等金属后, 进行热处理,制备金属薄膜。③化学镀金属化法,利用还原剂将溶液中的金属离子还 原在催化活性的物体表面而形成金属镀层,镀层与基体结合...
②薄膜金属 化法,一般采取离子镀、真空蒸镀、溅射镀膜等 PVD 方法在 AIN 陶瓷基板表层上沉 积电导率高、不易氧化的金属 Ti,然后在 Ti 层上沉积 Ag、Pt、Ni、Au 等金属后, 进行热处理,制备金属薄膜。③化学镀金属化法,利用还原剂将溶液中的金属离子还 原在催化活性的物体表面而形成金属镀层,镀层与基体结合...
[0024]在本公开的一些实施例中,在PVT法生长的AlN单晶衬底上生长一层牺牲层的步骤包括:采用MOCVD工艺,在PVT法生长的AlN单晶衬底上低温生长多晶(Al)GaN缓冲层;或者采用PVD工艺,在PVT法生长的AlN单晶衬底上低温生长多晶(Al)GaN纳米柱;在牺牲层上通过HVPE法生长单晶AlN的步骤包括:采用MOCVD工艺,AlN单晶衬底保持在1150℃...
电子束蒸发技术是一种物理气相沉积(PVD)技术,广泛应用于制备各种薄膜。在这种技术中,电子束被用来加热并蒸发源材料,然后蒸发的原子或分子在衬底上凝结形成薄膜。相比于其他PVD技术,电子束蒸发具有高蒸发速率、高沉积速率、高纯度等优点。 二、电子束蒸发AlN薄膜制备技术 AlN是一种硬质、高熔点...
公司目前有PVD真空多弧离子镀膜和金刚石镀膜设备数台,从事各种工具、刀具、模具、工艺品、装饰品、手术刀、医疗器具、航天航空部件等表面硬质合金镀层加工,表面镀层可选钛,铬,铜,铝,镍,镍铬等金属或各种合金,各种氮化物(比如氮化 ... 公司新闻 飞机关键零件表面PVD镀膜高硬金刚石纳米镀层 随着航空工业的不断发展,...
此外，在卫星通信和医疗设备中，射频滤波器也扮演着不可或缺的角色。展望未来，射频滤波器的应用前景广阔。AlN材料体系将进一步发展，其中，掺杂Sc元素的AlScN材料因其优异的压电性能，在高频信号处理领域占据重要地位。虽然早期采用PVD方法生长的AlScN晶体质量有待提升，但近年来通过MOCVD或MBE技术生长的AlScN，其晶体质量...