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-> ALD 设备(工作原理) 工作原理 原子层沉积技术是将要参与反应的前驱物藉由不同的前驱物导管,如图1所示,一次只通入一种前驱物的方式,依序地将前驱物导引至反应腔体。并藉由基材表面饱和化学吸附,一次只吸附一层前驱物,过多的前驱物及副产物将由钝气Ar或N2冲洗(purge)带走,以达自我限制。一个基本的原子层沉...
型号 ALD10P-3A 技术参数 品牌: ALTERA 型号: ALD10P-3A 批号: 23+ 数量: 7500 产品应用: 电子设备 产品类别: 电子元器件 是否支持订货: 是 现货交期: 1个工作日内 是否支持样品: 是 产品认证: UL,RoHS,CSA,TUV 是否提供FAE: 是 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加...
ALD自动化研发工程师 - K· 薪 青岛四方思锐智能 半导体/芯片 B轮 职位关闭 PLC电气工程师 - K· 薪 软控 机械设备/机电/重工 已上市 职位详情 PLC工程师 单片机开发 西门子 倍福 工作职责: 1. 参与设备电气系统设计,包括电气图纸绘制,电气元件选型及电控柜布局设计等相关工作; 2. 参与设备控制系统的设计工作...
3.根据权利要求1所述的一种基于ALD技术在医疗器械上制备氧化层的节能型方法,其特征在于:所述步骤S3中通入的惰性气体为氮气,并且在通入氮气所使用的设备上安装有节流阀,其中,节流阀的开口率控制在30%-60%。 4.根据权利要求1所述的一种基于ALD技术在医疗器械上制备氧化层的节能型方法,其特征在于:所述医疗器械...
一种ALD镀膜载具 本实用新型涉及半导体制造技术领域,公开一种ALD镀膜载具,包括有:主体,所述主体上设有相互贯穿的置放槽和插槽,所述置放槽用于置放晶圆;防绕镀板,与所述主体可拆卸连接,... 戴兴旺,李宁,居法银 被引量: 0发表: 2023年 一种适用于超大产量原子层沉积设备的速热载具 本发明公开一种适用于超大...
ALD沉积氧化镍是很慢很细致的过程。每一层的沉积都需要一定的时间来保证质量。这就像是手工刺绣一样,一针一线都要慢慢来,才能绣出精美的图案。虽然慢,但是好处可多啦。因为这样沉积出来的氧化镍质量特别高,性能也特别好。比如说在一些电子设备里,需要用到高质量的氧化镍薄膜,ALD沉积出来的就特别合适。 而且哦,ALD...
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特殊结构温度传感器 品质创造品牌的理念,为客户创造更大的价值 ALD GT SOLAR DSS多晶硅铸锭炉铂铑热电偶 详细说明: 上一篇:WR、WZ系列电站测温用热电偶、热电阻 下一篇:铸锭炉专用氧化锆热电偶保护管 首页 关于苏控 新闻资讯 产品中心 工程案例 荣誉资质 联系我们 联系人:何经理 手机:18168307776 电话:...
在本发明的方面中,嵌入式金属-绝缘体-金属(MIM)电容器包括TaAlC共形ALD层。例如,图1示出了根据本发明实施例的示例性MIM电容器的截面图。器件100可以包括衬底102、第一电介质层104、铜布线106、第二电介质层108以及MIM电容器110,所述MIM电容器110包括底部电极112、绝缘体层114以及顶部电极116。 在实施例中,衬底102...