ALD 涂层配方（彩色部分为主体元素可形成的化合物）
ALD技术由于其沉积参数可控(厚度、成分、结构),均匀性和保形性表现优异,在微纳电子和纳米材料等领域得到了广泛的应用。 影响覆盖能力和空隙填附能力的因素 ALD由于其自限性在所有薄膜沉积技术中已经是覆盖性、致密度最好的技术,但其沉积过程仍然会受到复杂结构中的阴影效应以及材料在样品表面迁移能力的影响,所以现今...
《半导体干法刻蚀技术:原子层工艺》笔记 热度: Atomic Layer Deposition System - 國立清華大學原子层沉积系统國立清華大學 热度: (原子与分子物理专业优秀论文)聚合物材料表面激光改性与刻蚀研究 热度: NANO- MASTER,INC. AtomicLayerEtching ALD NANO-MASTER ...
技术品牌SILMO™。 SILMO™是卓力能公司的一项具有自主知识产权的电子雾化技术,它以微孔陶瓷为基体,运用金属浆料厚膜印刷工艺,通过陶瓷表面覆膜的方式制成新型发热体,创新性解决了困扰行业多年的发热体技术瓶颈。SILMO™最早于2017年诞生在卓力能基础科学研究院,它源自我们最初的概念发热体Silmo1.0。这一年,卓力能首次...
ALD技术为何如此重要?ALD技术的核心优势在于其高度可控的薄膜沉积能力。在芯片制造中,薄膜的厚度、均匀性和台阶覆盖率直接影响芯片性能。微导的ALD设备在High-K栅介质层、金属栅、铜扩散阻挡层等关键工艺中展现出卓越性能,为先进制程提供了可靠保障。 微导的突破之路微导纳米副董事长兼CTO黎微明博士表示,微导的成功源...
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(二)此次研究由美国范德比尔特大学的心理学家David Zald领导。他和研究小组利用视觉闪光抑制(visual flash suppression)技术(该技术能够减慢大脑对面部表情的反应速度),和一个能让双眼同时观看不同图像的阅读器,向参与实验者的一只眼睛展示静态的面部表情图像,向另一只眼睛展示一串快速翻动的随机...
我们请到了AI技术大牛,来聊聊什么是人工智能 下班,别跑倍速立即下载 《下班,别跑》第二季,19年春季全面回归。 Live Laugh Love,真实记录三个女人的终身成长之路。 话题分类| 家庭 职场 自我 生活 内容设计| 每月4期 3期话题 1期热点 更新频率| 每周三晚20:00 主播| 舒大奕 易阿南 张...