原子层沉积 (ALD) 是一种通过氮气吹扫分离的脉冲化学蒸汽(“前体”)顺序暴露表面的技术。第一种前体通过与基材表面(通常与终止表面的 OH 基团)反应形成一个单层涂层。下一个前体与先前形成的单层表面反应,并形成另一个单层。通常使用两种不同的前体,导致二元...
随着微电子行业的发展, 集成度不断提高、器件尺寸持续减小, 使得许多传统微电子材料和科技面临巨大挑战, 然而原子层沉积(ALD)技术作为一种优异的镀膜技术, 因其沉淀的薄膜纯度高、均匀性及保行性好, 还能十分精确地控制薄膜的厚度与成分, 仍然备受关注并被广泛应用于半导体
ASM在ALD领域取得重大突破是在2007年,彼时,他们推出的Pulsar ALD工具成为第一个用于大批量制造使用新型铪基高介电层材料的器件的系统。 ASM公司的Pulsar® XP ALD设备(图源:ASM) 如今,ASM大约占据全球ALD设备55%的市场份额,是全球最大、市占率最高的ALD设备供应商。ALD业务...
原子层沉积 (ALD) 是一种改进的 CVD 工艺,用于制造薄膜。该工艺使用多种气体,这些气体交替导入工艺室。每种气体的反应方式使得当前表面饱和,因此当反应停止时,替代气体能够以相同的方式与该表面发生反应。在这些气体的反应之间,用惰性气体(如氮气或氩气)吹扫清洁反应室。一个简单的 ALD 过程可能如下所示: 1.与第...
1. 醛固酮(aldosterone) 醛固酮(ALd)测定正常参考值 立位:94-204ng/L(普通饮食); 卧位:55-139ng/L(普通饮食)。临床意义 1.增高:见于 … baike.baidu.com|基于2782个网页 2. 原子层沉积(atomic layer deposition) 原子层沉积(ALD)设备,化学气相沉积(CVD)设备,电化学沉积(ECD)设备,物理气相沉积(PVD设备),...
原子层沉积 (Atomic Layer Deposition, ALD)是一种基于化学气相沉积 (CVD) 的高精度薄膜沉积技术,是将物质材料以单原子膜的形式基于化学气相一层一层的沉积在衬底表面的技术。将两种或更多种前体化学品分别包含被沉积材料的不同元素,一次一种地分别引入到衬底表面。每个前体使表面饱和,形成单层材料。
原子层沉积(ALD,Atomiclayerdeposition)是一种用于薄膜生长的气相催化剂合成技术,目前已成为一种异质催化剂合成的替代方法。和化学气相沉积(CVD,Chemicalvapordeposition)一样,其原理是基于两种前驱体蒸汽交替进样,并在载体表面上发生分子层面上的“自限制”反应,实现目标材料在载体表面上的精准沉积。通过改变沉积周期数、...
ALD在质子交换膜燃料电池中的应用 在质子交换膜燃料电池中,ALD技术可以用来在不同的支撑骨架材料上直接沉积贵金属纳米颗粒,也可以将贵金属或者贵金属氧化物沉积在催化层(CL)和气体扩散层(GDL)上。 例如:采用ALD技术制备的Pt/ZrC催化剂相交于传统的化学还原法,具有更高的反应活性以及稳定性[10]。
1.1、以ALD技术为核心,向半导体与光伏领域布局延伸 公司于 2015 年成立,公司主要从事先进微、纳米级薄膜沉积设备的研发生产和销售, 公司从成立之初便立即开始原型机的研发,在 ALD 技术领域取得重大突破,全球首创 将 ALD 技术规模化应用于光伏领域,在 PERC、TOPCon、XBC 以及钙钛矿领域均实现出 货;同时在半导体领域,公...
Ald是一种罕见疾病,也被称为肾上腺脑蛋白质营养不良。这是一种遗传性疾病,主要由X连锁隐性遗传引起。该疾病会分解保护脑部的脊髓中神经的脂肪外层,从而损伤脊髓神经,导致神经难以向大脑传递信息。 该疾病有不同的临床类型,不同类型的症状也有所不同。常见的类型包括脑脱髓鞘型、肾上腺脊髓神经病和爱迪生病。其中,脑...