SKIIP1013GB172-2DK0203 电子元器件 SEMIKRON 封装 批号2021 SKIIP1013GB172-2DK0203 10000 SEMIKRON 原装现货 2021 ￥0.5300元100~499 个 ￥0.4770元500~1999 个 ￥0.3940元>=2000 个 深圳市博林汇电子科技有限公司 3年 -- 立即询价 查看电话 QQ联系 STM32F407VGT6 32位ARM微控制器 ST 封装 批号...
型号:G517AL2RB2D 封装:TDFN2x2-6 品牌:GMT/致新 配电开关 概述 G517是一款集成电源开关,适用于自供电和总线供电的通用串行总线(USB)应用。一些保护功能包括电流限制和热关闭,以防止在连续重负载或短路发生时,由于功耗增加而导致的灾难性开关故障。内置电荷泵用于驱动无寄生体二极管的N沟道MOSFET,以消除开关断电...
(2) 将MgaAlb(OH)c (CO3)d·x H2O表示成氧化物的形式:2aMgO·bAl2O3·2dCO2·(___)H2O;(3) 焦炭与石英高温下在氮气流中发生如下反应,工业上可由此制得一种新型陶瓷材料氮化硅(Si3N4):3SiO2(s)+6C(s)+2N2(g) Si3N4(s)+6CO(g) + Q (Q>0)。①该反应中,氧化产物是___。若测得反应生...
下列叙述中正确的是①铁在过量氧气中燃烧生成Fe2O3②铝在常温下不能与氧气反应③能用同一离子方程式表示:浓氨水滴入Al23溶液滴入浓氨水的反应④铝粉与氧化镁共热可制取金属镁⑤用过量氨水除去Fe3+溶液中的少量Al3+⑥除去Al(OH)3中混有的少量Mg(OH)2:加入过量的烧碱溶液充分
5.试用化学方法除去下列物质中混有的少量杂质.若为离子反应请写出其离子方程式.否则写化学方程式.(1)除去FeCl2溶液中混有的少量FeCl3,方程式:2Fe3++Fe=3Fe2+.(2)除去CO2气体中混有的少量HCl,方程式:H++HCO3-=CO2↑+H2O.(3)除去Fe2O3混有的少量Al2O3,方程式:Al2O3+2OH-=2
Two-dimensional (2D) Ruddlesden-Popper perovskites are currently drawing significant attention as highly-stable photoactive materials for optoelectronic applications. However, the insulating nature of organic ammonium layers in 2D perovskites results in
二维(2D)材料正被广泛用于宽带响应光电探测器(PD)。然而,基于2D材料的宽带响应PD通常对红外波长的响应较差。 近日,浙江大学徐明生教授和徐敬教授等人在Science China Materials发表研究论文,报告了垂直PtSe 2 /超薄Al 2 O 3 /Ge PD在近红外照明下的优异光响应性能。
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Taking 2D quintuple-layer (QL)-Al2S3 and QL-Al2O3 semiconductor as examples, we study the electronic properties and interlayer charge transfer of QL-Al2S3/Al2O3 interfaces by first-principles calculations. The driving force of the directional interlayer charge transfer is the polarization electric ...
{Q}{I}=\frac{0.000714mol×96500C/mol}{\frac{2}{3}A}=103.3515s\approx 1.72\min $,故答案为:$1.72$;$(3)$方案中加入适量双氧水的目的是将溶液中的$Fe^{2+}$氧化为$Fe^{3+}$,加入$NiO$的目的是调节溶液$pH$值,先后沉淀铁离子和铝离子,加入$NiO$固体,则开始析出沉淀时的离子方程式是:$NiO+...