镀膜工艺简介AFAGAR 一、PVD的定义及分类 二、真空蒸发镀膜 三、真空溅射镀膜 四、真空离子镀膜 五、AF、AG、AR简介 1 PVD的定义及分类 1.PVD的定义：物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气 压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是固 态物质，经过“蒸发或溅射”...
磁控溅射氧化锡镀膜工艺 磁控溅射氧化锡镀膜工艺。 低辐射镀膜玻璃生产工艺的技术创新 低辐射镀膜玻璃生产工艺的技术创新。 真空蒸镀 为了得到精美的蒸镀膜,有时必须进行底面涂布处理。无论是为了得到反射镜作用而实施真空蒸镀,还是对密接性较低的夺钢进行真空蒸镀时,都必须进行底面涂布处理。底面涂布工艺基本与涂布...
镀膜工艺简介AFAGAR 一、PVD的定义及分类 二、真空蒸发镀膜 三、真空溅射镀膜 四、真空离子镀膜 五、AF、AG、AR简介 1 PVD的定义及分类 的定义：物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气 压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是固 主要功能:减少或消除透镜、棱镜、...
镀膜工艺简介AFAGAR 第一页，共32页。一、PVD的定义及分类 二、真空蒸发镀膜 三、真空溅射镀膜 四、真空离子镀膜 五、AF、AG、AR简介 2 第二页，共32页。PVD的定义及分类 的定义：物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气 压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是...
镀膜工艺简介AFAGAR 一、PVD的定义及分类 二、真空蒸发镀膜 三、真空溅射镀膜 四、真空离子镀膜 五、AF、AG、AR简介 1 PVD的定义及分类 1.PVD的定义：物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气 压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是固 态物质，经过“蒸发或溅射”...
镀膜工艺简介AFAGAR 一、PVD的定义及分类 二、真空蒸发镀膜 三、真空溅射镀膜 四、真空离子镀膜 五、AF、AG、AR简介 1 PVD的定义及分类 1.PVD的定义：物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气 压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是固 态物质，经过“蒸发或溅射”...
镀膜工艺简介AFAGAR 镀膜工艺(gōngyì)简介AFAGAR 第一页，共33页。一、PVD的定义 (dìngyì)及分类 二、真空蒸发镀膜 三、真空(zhēnkōng)溅射镀 膜 四、真空(zhēnkōng)离子镀 膜 五、AF、AG、AR简介 2 第二页，共33页。PVD的定义(dìngyì)及分类 的定义(dìngyì)：物理气相沉积是一种物理气相反应生长...
镀膜工艺简介AFAGAR 一、PVD的定义及分类 二、真空蒸发镀膜 三、真空溅射镀膜 四、真空离子镀膜 五、AF、AG、AR简介 1 PVD的定义及分类 1.PVD的定义：物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气 压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是固 态物质，经过“蒸发或溅射”...
镀膜工艺简介AFAGAR 一、PVD的定义及分类 二、真空蒸发镀膜 三、真空溅射镀膜 四、真空离子镀膜 五、AF、AG、AR简介 1 PVD的定义及分类 1.PVD的定义：物理气相沉积是一种物理气相反应生长法。沉积过程是在真空或低气 压气体放电条件下，即在低温等离子体中进行的。涂层的物质源是固 态物质，经过“蒸发或溅射”...