设备型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/M 设备厂商:美国ABM公司 用途:光刻胶的图形化 工作原理:将设计的掩模图形通过光刻机曝光转移到涂有光刻胶的晶片上 技术性能指标 1.紫外光波长:365nm,曝光能量密度18-20mW/cm2可调 2.样品尺寸:6英寸及以下 3.分辨率:接触式曝光<0.5μm,接近式曝光≤1μm 4.对准精度:<1μ...
设备型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/M光学系统: 曝光时间调解器:0.1至999.9秒(可调节精度0.1s) 365-400nm光强传感及电源供应控制电路及反馈闭环; 声控功率警报装置可防止系统功率超过设定指标; 有安全保护装置的温度及其气流传感器; 全景准直透镜光线偏差半角: <1.84度; 波长滤片检查及安装装置 抗衍射反射功能高效反光镜...
支持电源350-2000 Watt支持深紫外近紫外波长(可选项)支持背后对准及MEMS工艺要求CCD或显微镜对准系统主要性能指标:光强均匀性Beam Uniformity::--<±1% over 2" 区域--<±2% over 4" 区域 --<±3% over 6" 区域接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV):0.5 um接触式样曝光特征尺寸CD(深紫外DUV):0.35 um支持...
品牌/型号:ABM公司,ABM/6/350/NUV/DCCD/BSV/M 所在地区:北京市 仪器说明:我们目前尚未与中国科学院力学研究所提供的该仪器进行进一步的对接。如果您需要使用该仪器,建议您联系相关单位,以确定是否可以对外开放。您也可以通过点击此处提交需求,委托我们帮您联系相关单位。如果您选择通过我们联系相关单位进行送样测试,...
设备型号:ABM/6/350/NUV/DCCD/M ABM-LED光刻机(标准型)适用于蓝光LED、红光LED、绿光LED、白光LED、绿光LED、TFT-LCD光刻,OLED光刻的研发和生产,ABM-LED光刻机(标准型)具有高稳定性、坚固耐用、性能卓越等突出特点。因此被大多数研发机构和生产企业所青睐。 光学系统: 曝光时间调解器:0.1至999.9秒(可调节精度...