硅片外延工艺是一种重要的半导体材料制备技术,通过在硅片表面生长一层与衬底晶格结构相同或相近的单晶层,以改善硅片的电学性能和结构特性。该工艺广泛应用于集成电路、太阳能电池等领域,对提高器件性能和稳定性具有重要意义。 硅片外延工艺主要包括气相外延、液相外延和分子束外延等方法。其中,气相外延是最常用的方法...