近日,一家中国科技公司申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利正式公布。 摘要显示,该发明涉及芯片设计及制造。这项发明的亮点在于,不用EUV光刻机或DUV光刻机,不需要光刻过程,直接蚀刻就可以制造5纳米芯片。此专利一经公布,便引起了大量网友的关注。对于申请这项专利的中国科技公司,相信不少网友都很好奇。 申请...
上海创消新技术发展有限公司,一家勇于挑战传统芯片制造技术的中国科技公司,最近公布了他们申请的“5纳米芯片制造的直接蚀刻方法”专利。这项技术亮点在于,无需使用EUV(Extreme Ultra Violet)光刻机或DUV(Deep Ultra Violet)光...查看全文 相关企业信息 公司名称:上海创消新技术发展有限公司 法人代表:刘明革 注册资本...