铜靶材是真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是经过系列加工后的产品，具有和金属铜一样的性能。铜靶材的纯度标准通常以N来表示，N前面的数字越大，表示铜的纯度越高。高纯铜靶材是指采用纯度在4N(Cu≥99.99%)以上的金属铜生产的靶材。具体来说，铜靶材的常用纯度标准包括：3N：99.9% 4N：99.99% 5N：99.999% ...
GBT 39159-2020集成电路用高纯铜合金靶材(标准状态：现行)I C S77.150.30 H62 中华人民共和国国家标准 G B/T39159 2020 集成电路用高纯铜合金靶材 H i g h p u r i t y c o p p e r a l l o y t a r g e t f o r i n t e g r a t e d c i r c u i t 2020-11-19...
本标准规定了集成电路用高纯铜合金靶材(以下简称划材)的分类.技术要求.试验方法、检验规则及标志、`包装、运输,贮存`质量证明书和订货单(或合同)内容。本标准适用于集成电路制造用的高纯铜铝(CuAl)合金靶材和高纯铜锰(CuMn)合金靶材。 购买 正式版 专题 ...