一、纯度标准 高纯钛靶材的首要标准便是其高纯度,通常要求达到99.9%以上。这种高纯度确保了在溅射过程中能形成均匀且致密的薄膜,进而提升产品的整体性能和使用寿命。 二、制备工艺要求 高纯钛靶材的制备工艺对其性能至关重要。目前主流的制备方法包括真空熔炼法和电子束熔炼法等,这些工艺能...
化学成分:高纯钛棒的钛含量应达到极高的纯度通常在 999以上甚至可达到 9999以上除钛元素外杂质元素的含量应严格控制在极低水平如铁碳氢氧氮等这些杂质元素的存在会对钛棒的性能产生显著影响如降低强度增加脆性等例如铁的含量一般应低于 0015碳的含量应低于 001氢的含量应低于 0015氧的含量应低于 015...
首先,高纯钛具有优异的耐腐蚀性。由于高纯度的钛材料中含有极低的杂质元素,使得其在酸、碱、氧化剂等强腐蚀介质中表现出卓越的耐腐蚀性。其次,高纯钛具有良好的高温性能。高纯钛具有较高的熔点和较低的热膨胀系数,使得其在高温环境下依然能够保持稳定的性能。此外,由于高纯钛的密度较低,约为4.5g/cm³,因此具有...
高纯钛的标准是YS/T1236-2018。根据查询国标公开系统显示。高纯钛是指钛纯度不低于99.995%的钛锭，主要用于集成电路溅射靶材制造、航空航天、海洋船舶、生物医疗等领域。高纯钛的标准是YS/T1236-2018，该标准规定了超高纯钛锭的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书和订货单(或...
华进半导体封装技术研发中心有限公司联合有研亿金新材料有限公司共同制定出高纯度钛靶和铜靶材的ASTM(美国材料实验协会American Society of Testing Materials简称)标准,标准号分别为ASTM F3166和ASTM F3192。该高纯钛/铜靶材主要应用于穿硅通孔(TSV)晶圆的金属化工艺中。标准对靶材金属的纯度、晶粒尺寸、内部质量、粘...
高纯钛靶材是指纯度极高的钛材料制成的靶材,通常纯度可达99.9%(3N)以上,甚至更高如99.99%(4N)、99.999%(5N)。这种高纯度使得钛靶材在薄膜沉积等工艺中表现出色,广泛应用于集成电路、太阳能电池、磁性材料等领域。 二、高纯钛靶材的制备方法 高纯钛靶材的制备主要经过原料选择、熔炼、精炼、加工和热处理等步骤。
高纯钛铁,顾名思义,是指纯度较高的钛铁合金。在行业标准中,高纯钛铁需要达到一定的化学成分和物理性能要求。这些要求确保了产品的质量和性能,满足各行业对高纯钛铁的需求。 二、高纯钛铁的生产标准 高纯钛铁的生产过程需严格遵守一系列的质量控制要求。首先,在原材料的选择上,必须使用高品质的钛矿和铁矿,以...
引用标准 ASTM B209 ASTM B248 ASTM E1001 ASTM E112 ASTM F1512 ASTM F1709 ASTM F1710 适用范围 1.1 本规范详细说明了先进封装中用作硅通孔(TSV)金属化薄膜材料的高纯钛溅射靶材的通用标准要求。1.2 本规范中包含溅射靶纯度、晶粒尺寸、内部质量、结合、尺寸和外观规格以及鉴定测试方法的参考。可靠性、认证...
YS/T 892-2024《高纯钛化学分析方法 痕量杂质元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》标准由全国有色金属标准化技术委员会于2024年10月24日发布,并计划自2025年5月1日起开始实施。此标准提供了利用电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)技术测定高纯钛中痕量杂质元素含量的方法,包括样品的制备、测试条件的设定以及结果分析等...
引用标准 GB/T 1031GB/T 4698.14GB/T 4698.15GB/T 4698.7GB/T 6394GJB 1580AYS/T 837YS/T 891YS/T 892 适用范围 本标准规定了电子薄膜用高纯钛溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存及质量证明与合同(订单)等内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类钛溅射靶材。