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Huang 等采用CVD 技术,将 ( CH3 ) 2 SiCl2作为原料,在 1 100 ～ 1 400 ℃的热解温度下制备了纯度高、含氧量低的纳米碳化硅粉体。在不同热解条件下,合成的 β-SiC 平均粒径为 40 ～ 70 nm。李斌等采用CVD 法,以自制的液态硅碳烷为前驱体,分别在 850 ℃和 900 ℃ 的较低温度下制得了高纯的 SiC ...
气相法通过巧妙控制气源中的杂质含量来获取高纯SiC粉体,其中包括CVD法和等离子体法。CVD法利用高温反应的魔法,能够得到超细、高纯的SiC粉体。例如,Huang等以(CH3)2SiCl2作为原料,在1100-1400℃的高温“熔炉”中,成功制备出纯度高、含氧量低的纳米碳化硅粉体,如同在微观世界里精...
张磊，一位在超高纯碳化硅粉体领域耕耘了十余年的专家，于1980年出生于哈尔滨，随后在哈尔滨工业大学攻读至博士毕业。他是绍兴晶彩科技有限公司的创始人，专注于超高纯碳化硅粉体材料的研发与生产。他在该领域取得了显著成就，率先开发出“无催化引发聚合技术制备高纯碳化硅粉源”的关键技术，成功将新材料应用于半导体...
1、电子领域:碳化硅化高纯粉体可用于制造半导体器件,电极和封装材料等方面。 2、机械制造领域:碳化硅化高纯粉体的高硬度和耐磨性可用于机械切削和磨合材料、轴承和凸轮等零部件的制造。 3、航空领域:碳化硅化高纯粉体可用于制造航空发动机喷嘴、燃烧室和涡轮叶片等零部件。 四、总...
超细碳化硅粉具有多种用途，主要包括以下几个方面：高性能复合材料：超细碳化硅粉在高性能复合材料中表现出色，能够显著提高材料的力学性能和耐热性。例如，在环氧树脂中添加纳米碳化硅可以显著提高复合材料的力学性能。此外，超细碳化硅粉还用于制造高性能结构陶瓷、吸波材料、抗磨润滑油脂、刹车片等。电子行业：超细碳化硅粉...
高纯碳化硅粉体,工业科研优选! 高纯超细碳化硅粉体是一种高纯度的材料,其纯度超过99.99%,有些甚至可以达到99.9999%。这种高纯度确保了材料在应用过程中的性能和可靠性。 粒径与形态 🌱 这种粉体的粒径分布范围非常窄,从0.1微米到50微米不等。这种精细的粒径控制能够满足不同工业应用对材料力度的严格要求。粉体的...