高数值孔径 EUV 光刻技术的价格高达3.8 亿美元，但在适当的情况下，它实际上可以降低总体生产成本。在 2025 年 2 月的 SPIE 先进光刻和图案化会议上，位于费尔德霍芬的 IBM 研究人员透露，一次高数值孔径曝光的成本约为标准低数值孔径曝光的 2.5 倍。这个价格看似很高，但当高数值孔径技术取代复杂的多重图案
英特尔称新ASML高数值孔径光刻机投入生产 2025年2月25日，据路透社消息，英特尔在加利福尼亚州圣何塞举行的一次会议上宣布，阿斯麦的首批两台尖端高数值孔径（NA）光刻机已在其工厂正式投入生产，并且早期数据显示这些机器的性能比早期型号更为可靠。英特尔高级首席工程师史蒂夫卡森在会议上表示，英特尔已经利用ASML的高数...
而下一代光刻技术——高数值孔径EUV光刻,涉及了对系统内部光学系统的重大改造,在这个十年结束前,芯片行业有望依靠它来持续进步。 分辨率与数值孔径 摩尔定律的维系有赖于光刻技术分辨率的提高,这样一来,芯片制造商就可以制造越来越精细的电路。在过去的35年里,通...
数值孔径的定义与计算公式为：NA=n_core×sin(θ_max)其中，n_core是光纤芯材的折射率，θ_max是光纤能够接受的创新入射角。高数值孔径意味着θ_max较大，光纤能接受更大范围内的光线。误区一：数值孔径越大，光纤传输距离越长 很多人认为数值孔径越大，光纤的传输距离也会更长。事实上，情况并非如此。高数值...
全球最大芯片代工企业台湾积体电路制造公司（台积电，2330.TW）一位高管周二表示，该公司仍在评估何时会在未来制程节点中采用 ASML（阿斯麦）尖端的高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻机。芯片制造商正在权衡：这些单价近 4 亿美元的设备所带来的速度和精度优势，何时能超过其近乎翻倍的价格 —— 这类设备已是...
数值孔径从0.33提升到0.55,相当于反射镜曲率半径缩小三分之一,这对抛光精度提出更高要求——镜面粗糙度需控制在0.1纳米以内,相当于北京到上海的距离误差不超过一根头发丝。 生产环境需要多层防护。极紫外光会被空气吸收,整个光刻过程必须在10帕斯卡级别的真空环境中进行,相当于外太空真空度的千分之一。操作人员需通过...
卡森指出，ASML 新型高数值孔径（NA）光刻机在初步测试中的可靠性约为旧款机型的两倍。他强调：“我们能够以稳定的速率生产晶圆，这对整个平台来说是一个巨大的优势。”此外，新型 ASML 光刻机通过光束在芯片上打印特征，能够在更少的曝光次数下完成与旧款机器相同的工作，从而节省时间和成本。卡森表示，英特尔工厂...
高数值孔径(NumericalAperture简称NA)是光纤得一项关键参数,它表示光纤能够接收以及传输光线的能力。简单来说数值孔径越大,光纤的接收光线角度就越宽,意味着它能接受更多方向的光。高数值孔径单模光纤;顾名思义;指的是这种光纤的数值孔径比较高,且它能够支持单模传播,这就意味着光在光纤中以单一模式传播,不会像多模...
6月17日，台积电研发资深副总经理米玉杰在台积电硅谷技术研讨会上宣布，公司计划于2024年引入ASML的高数值孔径极紫外光（high-NA EUV）光刻机，旨在 支持先进的芯片制程研发，保持行业领先。这种高数值孔径EUV光刻机是当前最先进的EUV光刻工具，其高数值孔径意味着更小的光线入射角度，从而能够制造出尺寸更小、速度...
ASML 在 imec 的 ITF World 2024 大会上宣布,其首台高数值孔径机器现已创下新的芯片制造密度记录,超越了两个月前创下的记录。ASML 前总裁兼首席技术官 Martin van den Brink 目前在该公司担任顾问,他还提议该公司可以开发超数值孔径(hyp...