产品特性 高纯度 品名 铜靶材 产地 北京 铜含量&ge, 99.99% 尺寸 1157*157*12mm 可售卖地 全国 用途 根据客户需求 材质 铜 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议...
靶材纯度相关标准如下: 1.纯度。要求杂质含量低纯度高,靶材的纯度影响薄膜的均匀性。一般工业用靶材纯度要求不高,但对于半导体、显示器件等领域用靶材对纯度要求十分严格,磁性薄膜用靶材对纯度的要求一般为99.9%以上,ITO中的氧化铟以及氧化锡的纯度则要求不低于99.99%。 2.密度。一般要求靶材的密度达到理论密度的99.5%...
磁控溅射是一种广泛应用于薄膜沉积的先进技术,靶材作为溅射源,对最终膜层的质量和性能起着至关重要的作用。为了满足不同应用的需求,靶材必须具备多方面的优异性能,主要包括化学纯度、物理性能和电学性能。下面将详细探讨这些基本要求及其对溅射过程和膜层质量的影响。A. 化学纯度 化学纯度是靶材质量的基础,它对溅射...
靶材制备需要选用高纯度的材料。纯度越高,在制备过程中产生的杂质越少,制备出的靶材质量就越高。因此,制备靶材所需材料的纯度要求非常严格。一般来说,制备单质或合金型靶材所使用的原料纯度要求达到99.9%以上。而对于氧化物型的靶材制备,则是80%-99.999%不等。 二、靶材制备一般过程 1.原料选择:根据...
高纯度靶材通常用于化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)等过程中的材料沉积,可以生产出磁性材料、光学材料和薄膜材料等一系列新材料。在研制新型材料、研究材料的物理、化学和机械特性等方面,高纯度靶材具有不可替代的重要作用。 为了满足不同的应用需求,高纯度靶材被分为多个类型,如金属靶材、合金靶材、陶瓷靶材、单...
主营商品:溅射靶材、高熵合金、科研合金、高纯金属 进入店铺 全部商品 19:00 a** 联系了该商品的商家 14:47 v** 联系了该商品的商家 12:33 m** 联系了该商品的商家 16:29 j** 联系了该商品的商家 16:28 q** 联系了该商品的商家 16:20 m** 联系了该商品的商家 11:43 t** 联系了该商品的商...
靶材纯度对大面积镀膜的影响 溅射靶材的纯度对薄膜的性能有很大的影响。当洁净的基材进入高真空镀膜室时,如果在电场和磁场的作用下靶材纯度不够。那样的话,靶材中的杂质粒子会在溅射过程中附着在玻璃表面,导致某些位置的膜层不牢固,出现剥离现象。因此,靶材的纯度越高,薄膜的性能就越好。在对纯度为99.9%的铜...
靶材是一种广泛应用于溅射镀膜、离子束刻蚀等工艺中的材料。在靶材的性能评价中,密度和纯度是两个不可忽视的因素。它们不仅直接决定了靶材的质量和性能,还影响着靶材的应用领域和使用寿命。 首先,让我们来了解一下靶材的密度。密度是指单位体积内物质的质量,是评价靶...
材料纯度 挑战描述:靶材中的微量杂质可以显著影响半导体器件的性能,尤其是在先进的微纳制程中。提高靶材的纯度是提升最终产品性能的关键。当前问题:尽管已有高纯度靶材,但进一步提升纯度面临成本和技术上的限制。成本效益 挑战描述:随着半导体制造对靶材性能要求的提高,高性能靶材的生产成本也随之增加。当前问题:如何...
纯度 标准:铝靶材的纯度通常在99.99%至99.999%之间,可做4N5。 影响:纯度直接关系到薄膜的质量和一致性。杂质元素的存在可能导致电气性能降低和薄膜缺陷增加。 密度 标准:理想的铝靶材应具有接近理论密度(约2.70 g/cm³)的密度。 影响:高密度靶材提供更均匀的烧蚀率和更好的热传导性,有助于保持薄膜沉积过程的稳定...