靶材（Target Material）是溅射工艺中的关键材料。其作用是通过高能离子轰击，将靶材原子或分子剥离并转移到衬底表面，形成特定功能的薄膜。(1) 靶材在溅射工艺中的功能 作为粒子轰击的目标材料：溅射工艺中，高能离子（通常为氩离子）撞击靶材表面，使靶材原子脱离并迁移到衬底上。决定薄膜性能：靶材材料的纯度和成分直接...
金属靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料。有金属类、合金类、氧化物类等等。材料介绍 简单说的话，例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜...铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。钨钛合金 应用于显示屏的阻挡层或调色层，笔记本...
靶材(Target Material)是溅射工艺中的关键材料。其作用是通过高能离子轰击,将靶材原子或分子剥离并转移到衬底表面,形成特定功能的薄膜。 (1) 靶材在溅射工艺中的功能 作为粒子轰击的目标材料:溅射工艺中,高能离子(通常为氩离子)撞击靶材表面,使靶材原子脱离并迁移到衬底上。 决定薄膜性能:靶材材料的纯度和成分直接影响...
靶材(Target Material)是溅射工艺中的关键材料。其作用是通过高能离子轰击,将靶材原子或分子剥离并转移到衬底表面,形成特定功能的薄膜。 (1) 靶材在溅射工艺中的功能 作为粒子轰击的目标材料:溅射工艺中,高能离子(通常为氩离子)撞击靶材表面,使靶材原子脱离并迁移到衬底上。
靶材的工作原理基于溅射工艺,是一种物理气相沉积(PVD)方法,依靠高能离子轰击材料表面实现物质转移。 (1) 溅射过程的基本原理 气体电离:在真空腔体内引入氩气并施加高电压,氩气被电离形成高能离子。 离子轰击靶材:高能离子在电场加速下撞击靶材表面,将靶材原子从晶格中“击打”出来。
采用精炼、熔化锻造、压延加工或粉未冶金工艺制造的半导体器件、记录媒体显示器件等的配线和薄膜的贵金属及其合金的溅射靶材。Au、Pt、Pd、Ag靶材用于集成电路和大规模集成电路，CoCrPt、CoPt和CoPd等合金靶材用于磁记录。定义 轻贵金属 银、钌、铑、钯的统称。密度在10～12/cm之间。重贵金属 金、锇、铱、铂的统称...
铝靶材是用于真空镀膜行业溅射靶材中的一种，是高纯铝经过系列加工后的产品，具有特定的尺寸和形状高纯铝材料，安装在真空镀膜机上，溅射成膜。名称 铝靶材 物理性质 用途 适用于直流二极溅射、三极溅射、四级溅射、射频溅射、对向靶溅射、离子束溅射、磁控溅射等，可镀制反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、...
平面靶材主要是指具有一定厚度的圆形靶材及矩形靶材。简介 平面靶材：planetarget 溅射靶材根据形状可分为平面靶材，多弧靶材，旋转靶材。，例如：直径100*厚度40mm的铜靶材。平面靶材通过镙文等方式与溅射设备相连接，在真空条件下溅射成膜层附着于基片上，再通过各种手段（刻蚀）对薄膜加工，以满足不同需要。成分结构 ...