在市场上,靶材的直径规格多样,常见的有50mm、100mm、150mm、200mm和300mm等。这些不同直径的靶材可满足不同溅射设备和工艺的需求。同时,靶材的厚度也因其应用场景而异,一般范围在1mm至10mm之间。较厚的靶材可提供更长的使用寿命,而较薄的靶材则可能具有更高的溅射效率。 三、靶材尺寸的选择依据 选择合适的靶材...
大尺寸靶材,直径大于300mm,因其大面积的溅射源而特别适用于平板显示、太阳能电池等大规模生产领域。在平板显示行业,大尺寸靶材能够提供大面积的均匀涂层,从而提高显示屏的质量和性能。在太阳能电池制造中,大尺寸靶材则有助于提高电池的光电转换效率。这些应用领域对靶材的尺寸和质量都有严格要求,以确保生产...
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小尺寸靶材:主要应用于精密制造、科研实验等领域。例如,在实验室中制备薄膜材料、进行材料分析测试等。由于其尺寸小,更易于精确控制实验条件,实现精确制备。中等尺寸靶材:广泛应用于工业生产、半导体材料制备等领域。在工业生产中,中等尺寸的靶材能够满足大部分生产线的需求,如金属、陶瓷等材料的制备。此...
较大的靶材尺寸可能会增加制备成本,而较小的尺寸则可能面临加工困难或工艺不稳定的问题。因此,在选择靶材尺寸时,需要找到一个平衡点,既要保证薄膜的质量和均匀性,又要考虑成本和可行性。 综上所述,射频磁控溅射靶材尺寸的选择是一个需要综合考虑多方面因素的决...
半导体靶材尺寸半导体靶材尺寸 半导体靶材的尺寸通常取决于其应用和生产工艺。一般来说,半导体靶材的尺寸可以是毫米级或厘米级,具体取决于制造工艺和设备要求。 在半导体制造过程中,靶材是用于制造薄膜的关键材料之一。它们通常被用于制造各种半导体器件,如太阳能电池、LED、晶体管等。因此,靶材的尺寸和形状需要根据制造工艺...
1.基板面积大小:首先应根据磁控溅射设备的匹配程度,考虑基板面积大小选择靶材尺寸。靶材的面积应该比基板面积大一些,以确保靶材的利用率和蒸气源稳定性,有利于提高薄膜的制备效率和制备质量。 2. 制备薄膜的良率:靶材材料的性质和尺寸对薄膜制备的良率及最终产品质量的影响较大。例如,对于硬质合金...
铽靶材纯度:3N 铽靶材尺寸:按图纸加工或其他者定制 铽靶材制备工艺 第一次热处理:将铸坯依次进行第...
通常情况下,矩形靶材的长宽比可以在1:1到3:1之间选择。 3.溅射功率:矩形靶材的尺寸还会对溅射过程中的功率分布产生影响。在溅射过程中,较大的靶材尺寸往往需要更高的溅射功率来保持恒定的薄膜生长速率。因此,在选择矩形靶材尺寸时需要考虑到实际的溅射设备能够提供的功率范围。 总之,矩形靶材的尺寸在磁控溅射中具有...