静电吸附卡盘是一种利用静电力将工件保持在平面上的设备。其原理是在卡盘表面施加静电电场,通过静电力将工件吸附在卡盘表面上,从而保持工件的位置和姿态。静电吸附卡盘的电场是由高压电源和电极组成的。 二、静电吸附卡盘的工作方式 静电吸附卡盘的工作方式是将静电电源的电极连接到卡盘表面的电极上,形成一个静电...
金融界2024年12月12日消息，国家知识产权局信息显示，荣芯半导体（宁波）有限公司申请一项名为“一种静电吸附卡盘、工件台及机台”的专利，公开号CN 119108330 A，申请日期为2024年11月。专利摘要显示，本发明提供了一种静电吸附卡盘、工件台及机台，所述静电吸附卡盘包括卡盘主体、静电电极、多个导电连接件和供电电源...
金融界2024年12月12日消息,国家知识产权局信息显示,荣芯半导体(宁波)有限公司申请一项名为“一种静电吸附卡盘、工件台及机台”的专利,公开号CN 119108330 A,申请日期为2024年11月。 专利摘要显示,本发明提供了一种静电吸附卡盘、工件台及机台,所述静电吸附卡盘包括卡盘主体、静电电极、多个导电连接件和供电电源;静...
这一点尤其符合现代半导体制造的需求,因为不同类型的晶圆在厚度、直径和材料上均有可能存在差异。通过优化吸附力,荣芯的新型卡盘能够满足多种生产需求,进一步提升厂商的灵活性。 此外,静电吸附卡盘的推出也标志着半导体行业的另一重大进步。在全球半导体技术竞争加剧的背景下,荣芯的创新不仅能够增强其在市场中的位置,也...
2024年12月12日消息,荣芯半导体(宁波)有限公司最近向国家知识产权局申请了一项名为“一种静电吸附卡盘、工件台及机台”的专利(公开号CN119108330A),该专利的核心在于其能够稳定吸附晶圆,解决当前半导体加工领域中晶圆固定不稳的问题。 在半导体制造过程中,晶圆的稳定性是确保芯片成品质量的关键。传统的夹紧与吸附技术...
电极层和造粒粉末B进行等离子喷涂至铝基材上，得到自下而上依次为铝基材、绝缘层、电极层和电介质层的J‑R型静电卡盘。本发明制备的J‑R型静电卡盘具备优异的静电吸附力和解吸附响应。此外，造粒粉末B进行等离子喷涂后形成电介质层，也具备良好的耐蚀性和耐电压性。本文源自：金融界 作者：情报员 ...
金融界2024年12月12日消息,国家知识产权局信息显示,荣芯半导体(宁波)有限公司申请一项名为“一种静电吸附卡盘、工件台及机台”的专利,公开号CN 119108330 A,申请日期为2024年11月。 专利摘要显示,本发明提供了一种静电吸附卡盘、工件台及机台,所述静电吸附卡盘包括卡盘主体、静电电极、多个导电连接件和供电电源;静...
随着半导体行业对高精度设备需求的不断上升,荣芯半导体(宁波)有限公司最近申请了一项名为“一种静电吸附卡盘、工件台及机台”的专利。这一创新技术旨在有效吸附晶圆,并在制造过程中提升效率和稳定性。根据国家知识产权局的信息,该专利申请于2024年11月提交,公开号为CN119108330A,显示出荣芯半导体在行业内继续寻求技术...
静电卡盘吸附力的计算方法主要涉及到静电场强度、带电物体的电荷量和物体的质量等因素。根据库仑定律,静电场强度与带电物体的电荷量成正比,与距离的平方成反比。因此,可以得到静电卡盘吸附力的计算公式: F = k * q1 * q2 / r^2 其中,F 表示静电卡盘吸附力,k 为静电力常数,q1 和 q2 分别为带电物体 1 和...
专利摘要显示，本发明涉及半导体核心零部件静电卡盘领域，具体涉及一种提高吸附效果的静电卡盘双电极结构，该双电极结构整体图形结构为两个尺寸一致，平面面积相等，以圆心互成对称排布的两个独立电极结构；两个独立电极结构分别为静电卡盘的正负电极；正负电极沿各自对称中心线以递增螺旋线形式结合构成；电极中心线，即递增...