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金融界2024年11月1日消息，国家知识产权局信息显示，武汉瑞普赛技术有限公司申请一项名为“一种真空对位贴合式露光机及其使用方法”的专利，公开号 CN 118876573 A ，申请日期为 2024年9月。专利摘要显示，本发明公开了一种真空对位贴合式露光机，包括主体框架内设有真空腔室，上平台和下平台上下平行设置在真空腔室内...
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日本SanRex露光装置光源机器用电源高性能SANREX/日本 特点介绍 在高密度、高精细的印刷电路板等利用照相工艺印刷、曝光布线图案时,也需要高稳定、高输出的光,因此需要高输出的光源电源。 与此类灯匹配的数量正在增加。为了提高清晰度和生产率,曝光机将灯输出增加到10kW至35kW。
NIKON ENGINEERING股份有限公司在1995年,开始贩卖磁头的ABS加工用曝光装置获得了很高的评价,这次开始发行的「小型曝光机 NES1-h04」是将以前的缩小投影曝光装置的技术为基础,并且针对MEMS制造时的需求所开发出的新产品。特点：1.搭配了适合MEMS用新开发的投影镜头 MEMS用缩小投影曝光装置,实现了MEMS制造时所...
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露光机基板焼付位置合わせ_011219 基板排出 ＭＡＳＫ供給ＭＡＳＫ供給 基板流動 ＭＡＳＫ位置決定（ＭＡＳＫ対位）基板露光 1 露光結果誤差修正 誤差的修是１．基準ＰＩＮ的移動２．顕微鏡移動３．予備対位移動合格製品ＭＡＳＫ位置 2 焼付結果（不好）※但是規格寸法的顧客決定 ② ①測定 ③ 測定 3 Ｐ...
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