另据香港南华早报报道,西湖大学的陈毅坚教授在领英上的早些发帖称,浸没式 DUV 光刻扫描仪通过使用他研究的多重图案自对准切割/通孔干式蚀刻工艺,可以实现等效于英特尔 14A 逻辑工艺,该工艺预计将于 2027 年推出,节点等级为 1.3 纳米。