国产半导体设备企业“新凯来”,正在利用多重图形曝光等技术提升芯片制造工艺,公布包括外延沉积EPI设备(峨眉山系列)、原子层沉积ALD设备(阿里山系列)、物理气相沉积PVD设备(普陀山系列)、刻蚀ETCH设备(武夷山系列)、薄膜沉积CVD设备(长白山系列)和量检测设备(包括岳麓山、丹霞山、蓬莱山、莫干山、天门山、沂蒙山、赤壁山、功率检