内容提示: http://www.paper.edu.cn - 1 - 中国 科技论文在线 铝垫工艺晶须缺陷的改善及管控 柳小敏 1,2 ,黄其煜 1 ,胡彬彬 2 ,蔡俊晟 2** (1. 上海交通大学电子信息与电气工程学院,上海,中国,200240; 2. 上海华力微电子有限公司,上海,中国,201203) 5 作者简介:柳小敏 1986 年,男,工程师,研究...
半导体技术,铝垫工艺,晶须缺陷,沉积温度,环境杂质运用物理气相沉积(physical vapor deposition,PVD)方法制备铝薄膜,简要概括了PVD铝薄膜工艺和设备腔体,重点分析了铝薄膜沉积温度及腔体环境杂质对晶须缺陷的影响,并从腔体的日常维护角度出发,提出腔体环境杂质的管控手段和减少腔体维护后杂质含量的方法,使晶须缺陷数量稳定并...