反射镜应用：铜靶材能够提供高质量的铜薄膜，这些薄膜具有优异的光学反射特性，适用于制造高效能的反射镜。滤光片应用：在制造滤光片时，铜薄膜因其独特的光学吸收特性，能够有效调节通过的光波长，提高滤光效果。技术流程：溅射沉积：使用铜靶材在高真空环境下通过溅射方式沉积铜膜，该方法能够控制薄膜的均匀性和厚度。
铜合金靶材在半导体制造工艺中广泛应用,可以用于制备氮化硅、氮化铝和氧化铜等薄膜。此外,铜合金靶材还可以用于制备金属铜等材料的薄膜。这些薄膜在集成电路制造、LED制造等领域有着广泛的应用。 三、铜合金靶材在光学薄膜中的应用 铜合金靶材可以制备出表面光滑、均匀的铜薄膜,这些薄膜在光学领域中应用广泛,可制备光学...
制作反光膜、导电膜、半导体薄膜、电容器薄膜、装饰膜、保护膜、集成电路、显示器等：这些都是铜靶材的...
1. 为靶材提供支撑 靶材通常是一种薄膜材料,很容易被损坏或变形。针对这一问题,靶材背板的铜板就显得尤为重要,因为它能够为靶材提供稳定的支撑,保证靶材不受损坏或变形,从而提高了靶材的制备效率和质量。 2. 具有导电性 铜是一种良好的导电材料,靶材背板的铜板能够将电流迅速传递到靶材上,从而使靶材发生化学反应或...
铝硅铜靶材是一种主要由铝、硅、铜组成的材料,外形为圆盘形或方形,用于制造半导体、光电子学、电子元器件和显示器件等方面。铝硅铜靶材具有良好的电学、光学性能和热稳定性,是制备薄膜的理想材料。 二、铝硅铜靶材的用途 铝硅铜靶材主要被用于物理气相沉积等薄膜制备技术中。在半导体领域,铝...
摘要 本发明公开了一种高纯铜靶材的制备方法及靶材的用途,所制备的铜靶材平均晶粒尺寸≤1μm,且分布均匀。制备步骤包括:将纯度≥4N的铜原料依次进行1)连续铸造;2)坯料切割;3)等通道侧向挤压;4)轧制;5)热处理,制得高纯铜靶材。该方法制备的高纯铜靶材具有晶粒尺寸均匀细小、取向较为一致、靶材尺寸较大且较厚等...
1.高纯度：铜锌镍铝合金靶材通常具有高纯度，确保在溅射镀膜过程中提供高质量的原子沉积。高纯度靶材可以减少杂质对薄膜性能的影响，提高薄膜的导电性、耐腐蚀性和化学稳定性。2.良好的导电性：由于铜、铝等元素是良好的导体，铜锌镍铝合金靶材也具有优良的导电性。这使得它在制备电子薄膜、导电涂层等方面具有广泛应用...
金融界2024年7月2日消息，天眼查知识产权信息显示，贵研铂业股份有限公司取得一项名为“一种高纯铜靶材的制备方法及靶材的用途“，授权公告号CN115415351B，申请日期为2022年8月。专利摘要显示，本发明公开了一种高纯铜靶材的制备方法及靶材的用途，所制备的铜靶材平均晶粒尺寸≤1μm，且分布均匀。制备步骤包括：将...
铝锡铜合金靶材的用途包括: 电子信息产业:在电子信息产业中,铝锡铜合金靶材被广泛应用于溅射沉积过程,由于其优良的导电性能和热稳定性,能够提供高质量的沉积层,从而提高电子设备的性能和寿命。 玻璃镀膜:在玻璃镀膜过程中,铝锡铜合金靶材能够提供均匀、致密...