以铅锌矿含锗烟尘为原料可制备GeO2,其工艺流程图如下。 已知:GeO2是两性氧化物;GeCl4易水解,沸点86.6℃ (1)第①步滤渣主要成分有_____________(填化学式),实验室萃取操作用到的玻璃仪器有__________________。 (2)第③步萃取时,锗的萃取率与V水相/V有机相(水相和有机相的体积比)的关系如下图所示,从生产...
(12分)锗及其化合物被广泛应用于半导体、催化剂等领域。以铅锌矿含锗烟尘为原料可制备GeO2,其工艺流程图如下。 已知:GeO2是两性氧化物;GeCl4易水解,沸点86.6℃ (1)第①步滤渣主要成分有(填化学式),实验室萃取操作用到的玻璃仪器有。 (2)第②步萃取时,锗的萃取率与V水相/V有机相(水相和有机相的体积比...
由于立式磨机的有效磨矿作用远高于普通卧式球磨机,而且它的转速和介质充填率远高于普通卧式球磨机,因此它的磨矿强度与有效磨矿作用大,它的单位容积产能较普通卧式球磨机大。由于立式结构,在磨矿筒体内形成一定的介质压力,也有利于提高磨矿强度,可将铅锌矿有效研磨至1微米甚至100纳米的颗粒粒径范围。
锗及其化合物被广泛应用于半导体.催化剂等领域.以铅锌矿含锗烟尘为原料可制备GeO2.其工艺流程图如下.已知:GeO2是两性氧化物,GeCl4易水解.沸点86.6℃;PbO不溶于稀硫酸(1)第①步滤渣主要成分有 .实验室萃取操作用到的玻璃仪器有 .(2)第③步萃取时.锗的萃取率与V水相/V有机相
锗及其化合物被广泛应用于半导体.催化剂等领域.以铅锌矿含锗烟尘为原料可制备GeO2.其工艺流程图如下.已知:GeO2是两性氧化物,GeCl4易水解.沸点86.6℃(1)第①步滤渣主要成分有 .实验室萃取操作用到的玻璃仪器有 .(2)第③步萃取时.锗的萃取率与V水相/V有机相的关系如下图所示.
7.锗及其化合物被广泛应用于半导体.催化剂等领域.以铅锌矿含锗烟尘为原料可制备GeO2.其工艺流程图如图1.已知:GeO2是两性氧化物,GeCl4易水解.沸点86.6℃(1)第①步滤渣主要成分有SiO2.PbO .实验室萃取操作用到的玻璃仪器有分液漏斗.烧杯.(2)第③步萃取时.锗的萃取率与V水
锗及其化合物被广泛应用于半导体.催化剂等领域.以铅锌矿含锗烟尘为原料可制备GeO2.其工艺流程图如下.已知:GeO2是两性氧化物,GeCl4易水解.沸点86.6℃(1)第①步滤渣主要成分有 .实验室萃取操作用到的玻璃仪器有 .(2)第③步萃取时.锗的萃取率与V水相/V有机相(水
3.锗及其化合物被广泛应用于半导体.催化剂等领域.以铅锌矿含锗烟尘为原料可制备GeO2.其工艺流程图如图1.已知:GeO2是两性氧化物,GeCl4易水解.沸点86.6℃(1)第①步滤渣主要成分有SiO2.实验室萃取操作用到的玻璃仪器有分液漏斗.烧杯.(2)第③步萃取时.锗的萃取率与$\frac{{V
(14分)锗及其化合物被广泛应用于半导体、催化剂等领域。以铅锌矿含锗烟尘为原料可制备GeO2,其工艺流程图如下。 已知:GeO2是两性氧化物;GeCl4易水解,沸点86.6℃ (1)第①步滤渣主要成分有 (填化学式),实验室萃取操作用到的玻璃仪器有 。 (2)第③步萃取时,锗的萃取率与V水相/V有机相(水相和有机相的体积...
6.锗及其化合物被广泛应用于半导体.催化剂等领域.以铅锌矿含锗烟尘为原料可制备GeO2.其工艺流程图如下.已知:GeO2是两性氧化物,GeCl4易水解.沸点86.6℃,PbO不溶于稀硫酸(1)第①步滤渣主要成分有SiO2.PbO .实验室萃取操作用到的玻璃仪器有分液漏斗.烧杯.(2)第③步萃取时.