金属硬掩模一体化刻蚀是一种先进的干法刻蚀技术,它能够在同一个工艺腔体内连续完成多个关键步骤,具体包括: 一次光刻:首先通过光刻工艺定义出沟槽形貌。这一过程确保了后续刻蚀操作能够准确地按照设计要求进行。 金属刻蚀与去光刻胶:接下来,在金属刻蚀腔内使用TiN等硬掩膜材料进行...
Ar离子通过物理轰击提供垂直方向的刻蚀动力；N₂与金属侧壁反应生成AlₓNᵧ，有助于增强侧壁的稳定性；而CHF₃和C₂H₄则与光刻胶反应生成聚合物，共同在侧壁形成钝化层，有效阻止横向刻蚀的发生。这一系列复杂的化学反应与物理过程，共同构成了金属铝刻蚀的精细工艺。工艺参数与设备设计 金属铝刻蚀的工艺...
金属铝干法蚀刻工艺是一种基于化学反应的精密刻蚀技术,它利用高能离子束轰击铝材料表面,从而在铝材表面形成微小凸起或坑洼,实现对铝材料的高效、精准刻蚀。与传统湿法蚀刻相比,金属铝干法蚀刻工艺具有环保、节能、高效的特点,能够有效地提高加工效率和成品质量。 二、金属铝干...
你想想看,一块平平无奇的金属板,通过一系列神奇的操作,就能变成各种精美的形状和图案,这多了不起呀!就好像一个魔法师,能把普通的东西变得充满魅力。 金属刻蚀工艺呢,就像是在金属上进行一场精心雕琢的艺术创作。首先得有合适的刻蚀剂,这就好比是画家的颜料,没有它可不行。然后呢,得掌握好刻蚀的时间和条件,时间...
由于金属硬掩膜一体化刻蚀工艺需要在一个工艺菜单条件下完成孔洞结构和沟槽结构的刻蚀,工艺步骤间的参数变化剧烈,这也会带来工艺上的诸多问题。 相较传统的光刻胶掩膜刻蚀工艺,金属硬掩膜一体化刻蚀工艺的优势。 高选择比:光刻胶掩膜刻蚀工艺中,通过工艺调整 LK:PR 的刻蚀选择比可以达到～8:1,而金属硬掩膜刻蚀工艺...
对环境有一定的影响。综上所述，金属网板加工选择刻蚀工艺而非冲压工艺的原因主要是因为刻蚀工艺具有更高的制程能力、更好的表面质量、更高的生产效率、更低的成本、更广泛的适用性以及对环境的影响更小等优点。在具体的生产过程中，需要根据实际的生产需求和材料类型来选择最合适的加工方法。
刻蚀前需要对金属膜表面进行处理,去除杂质(包括氧化层)、打磨平整,从而达到更好的刻蚀效果。此外,刻蚀前必须保证金属膜表面均匀,否则会导致蚀深不均。 四、刻蚀工艺流程 刻蚀工艺流程主要包括刻蚀条件的设定、刻蚀液的选择以及刻蚀设备的使用等。 1. 刻蚀条件的设定 刻蚀条件包括刻...
今天咱来聊聊半导体金属刻蚀工艺,这可真是个超级有趣又超级重要的玩意儿啊! 你想想看,半导体就像是一个微缩的奇妙世界,而金属刻蚀工艺呢,那就是在这个小世界里精雕细琢的魔法呀!就好像一位巧匠,要在一块小小的材料上打造出令人惊叹的杰作。 在这个过程中,每一个步骤都得小心翼翼,就跟走钢丝似的。稍有不慎,...
1.一种金属刻蚀工艺,用于对半导体衬底上的金属层进行刻蚀,所述金属刻蚀工艺在刻蚀设备中进行,其特征在于,所述金属刻蚀工艺的刻蚀气体的流量不小于300sccm。 2.如权利要求1所述的金属刻蚀工艺,其特征在于,所述刻蚀气体自半导体衬底的正面流向半导体衬底的两侧。 3.如权利要求1所述的金属刻蚀工艺,其特征在于,所述金属...
1、鉴于背景技术中存在的问题,本公开的一目的在于提供一种金属层刻蚀工艺,其能够消除集中在晶圆中央的圆片状团簇。 2、由此,在一方面,提供一种金属层刻蚀工艺,针对金属层刻蚀通入刻蚀腔室的刻蚀气体为cl2气和其它非ar气体,cl2的流量设定小于采用cl2气和ar气作为工艺气体时的cl2气流量。