还原炉沉积多晶硅是间歇操作，一个运行周期结束后需要打开钟罩收割硅棒，然后进行基盘清理，再装硅芯进行下一个周期的化学气相沉积。因此，想提高设备运转率、降低能耗，选择方便、快捷、处理效果好的清理工艺尤为关键。多晶硅还原炉钟罩清洗系统是以高压清洗机为主机，以高压水射流为动力的自驱动三维旋转喷头形成360°的网状高压水柱喷射表面，从而完成
1、多晶硅还原炉炉筒传统清洗方式 一般的清洗方法用高压水枪进行冲洗，再用氮气吹干， 然后打磨，最后再用无水乙醇擦拭。实践证明，由于清洗过程中要对炉壁进行打磨，导致大量的重金属析出，造成清洗后首次加工的多晶硅的纯度偏低，严重影响多晶硅的生产。因此，针对多晶硅还原炉钟罩的清洗，行业内大多采用自动化机械清洗方...
多晶硅还原炉是生产多晶硅的核心设备,而多晶硅还原炉的反应雾化是指在还原炉内由于高温作用下,氯硅烷发生热裂解反应,产生细硅粉,这些细硅粉在炉内气相空间形成雾状,即所谓的雾化现象。这种雾化现象如果不加以控制,会导致多晶硅棒表面出现不规则的颗粒或内部夹层,影响产品质量。 ...
但温度超过规定值或者低于规定值,其他的几个反应就要多起来了,影响沉积速率,甚至产品质量。所以,多晶硅生产中,对还原炉内的温度控制相当严格的,是专门有一套系统来控制的。 END 转载内容仅代表作者观点 不代表中国科学院半导体所立场
Wonder PSi多晶硅还原炉 先进控制产品的雾化控制手段 我们双良混沌自主研发的Wonder PSi多晶硅还原炉先进控制产品，采取“硬件软做”的思路，提供APC先进控制软件技术解决方案，以最大程度减少客户现场为优化工艺而采取的大系统硬件设备改造数量和成本。对于雾化控制，我们产品基本集成了上述雾化控制方案的所有方向，采用自研AI...
一、多晶硅还原炉钟罩内部清洗难题 多晶硅还原炉内的残留物及清洗液具有腐蚀性，同时清洗中残留氯硅烷会发生水解伴有氢气产生，容易产生爆鸣燃烧。因此，采用人工清洗的方式不仅存在清洗效率低、劳动强度大、清洗质量差，并具有一定的安全隐患等难题。且人工清洗基盘时无法避免溶液流进进料管和尾气管内，很容易造成二次...
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多晶硅还原炉 (共84件相关产品信息) 更新时间:2024年12月13日 综合排序 人气排序 价格 - 确定 所有地区 实力供应商 已核验企业 在线交易 安心购 查看详情 ￥2000.00/米 江苏无锡 宇友还原炉水冷电缆 多晶硅重熔炉 长时间运作 安全性高 在线交易 宇友品牌 宜兴市宇友冶金设备有限公司 2年 查看详情 ￥...
多晶硅还原炉的能耗问题与高效隔热解决方案 多晶硅还原炉是晶硅制备流程中的核心设备，其核心功能在于生产多晶硅，该材料广泛应用于太阳能电池板制造、半导体产业及光电技术等众多领域。其工作原理基于石墨电极与石墨低电阻体通电加热，营造高温环境。在此条件下，引入的三氯氢硅（或三氧化硅）与氢气（或其他指定气体）...
在还原炉内,部分三氯氢硅会发生这种歧化反应,生成四氯化硅和二氯二氢硅(SiH₂Cl₂)。这同样会消耗原料三氯氢硅,降低其用于主反应生成多晶硅的量,对生产效率产生负面影响。而且生成的二氯二氢硅在后续工艺中也需要妥善处理,否则会影响产品质量和生产流程的稳定性。