litho 边峰效应 Litho 边峰效应指在半导体制造过程中,当光刻光束照射到光刻胶和硅片的交界处时,由于光刻胶和硅片的折射率不同,会产生光的折射和反射,导致光束在交界处形成强烈的电场,使得边缘区域的线宽变窄,而中心区域的线宽则保持不变或变宽。这种效应会导致芯片的制造出现偏差,影响芯片的可靠性和性能。为了避免...