应用 详细 光刻 集成电路 技术先进 分析 先进 这些 光学 不断 理解 可以 读者 内容摘要 内容摘要 随着科技的不断进步，超大规模集成电路（VLSI）已经成为现代电子设备的关键部分。为了实现更小、更快、更高效的集成电路，需要采用先进的光刻技术。本书旨在介绍超大规模集成电路先进光刻理论与应用，为读者提供有关光刻...
《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》覆盖现代光刻技术的主要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于32nm节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例,这些实例都是经过生产实际验证的,希望能对读者有所启发。《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》...
在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律得以继续。本书覆盖现代光刻技术的重要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺。在设备部分,对业界使用的主流设备进行剖析,介绍其原理结构、使用方法、和工艺参数的设置。在材料部分,介绍了包括光刻胶、抗反射涂层、抗水涂层、和使用旋图工艺的硬掩膜...
内容摘要《超大规模集成电路先进光刻理论与应用》是一本关于光刻技术的宝贵资源,它既适用于电子工程和微电子学领域的专业人士,也可以作为相关学科的教材和参考书。无论是对学术研究还是对工业应用,本书都具有重要的参考价值。精彩摘录精彩摘录随着信息时代的到来,超大规模集成电路(VLSI)技术已经成为了现代电子工业的核心...
【超大规模集成电路先进光刻理论与应用 韦亚一 光刻技术概述 投影式光刻机的工作原理掩模板及其管理图书籍点击进入9.9元专区>> ¥363.00 (10.00折) 降价通知 定价¥363.04 暂无评分 0人评分精彩评分送积分 作者 韦亚一 查看作品 出版 科学出版社,月 查看作品 分类 图书>工业技术>电子 通信>半导体技术 ...
10.5.4自对准技术在NAND器件中的应用47210.5.5自对准的重复使用(SAQP,SAOP) 473超大规模集成电路先进光刻理论与应用10.5.6SADP和LE结合实现三重成像 47610.5.7自对准实现三重图形叠加47710.5.8“SAMP Cut”工艺47810.6掩模图形的拆分48010.6.1适用于LELE工艺的图形拆分 48010.6.2适用于LELELE工艺的图形拆分48410.6...
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超大规模集成电路先进光刻理论与应用 作者:韦亚一出版:科学出版社 2016.6定价:260.00 元ISBN-13:9787030482686ISBN-10:7030482689 去豆瓣看看 想要 拥有 00暂无人评价... 内容简介 光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻...
图书 > 科学与自然 > 物理学 > 科学出版社(SCIENCE PRESS) > [按需印刷]超大规模集成电路先进光刻理论与应用/韦亚一 著 科学出版社旗舰店 [按需印刷]超大规模集成电路先进光刻理论与应用/韦亚一 著 韦亚一 著著 京东价 ￥ 促销 展开促销 配送至 --请选择-- ...