环氧基紫外负性光刻胶 1. THE PROPERTIES, APPLICATION PROCESSING AND PROSPECT OF EPOXY-BASED NEGATIVE PHOTORESISTSU-8; 环氧基紫外负性光刻胶的特性、应用工艺与展望 4) negative 负性 1. The research progress ofnegativephotosensitive polyimide was summarized. ...
4) wash liquid for positive resist 正型光刻胶显影剂 5) negative resist rinse 负性光刻胶漂洗剂 6) polymeric material for optical process 负性光刻胶 补充资料:负性 1.禀性。 2.具有个性。 说明:补充资料仅用于学习参考,请勿用于其它任何用途。
紫外正性光刻胶 6) DUV lithography 远紫外光刻 补充资料:负性光刻胶 分子式: CAS号: 性质:光加工是指以可见紫外光、X射线、电子束、或者离子束作为加工手段的材料处理工艺,具有加工精度高,容易自动化等特点,广泛用于集成电路和印刷电路板制造、印刷制版等领域。光加工用高分子材料指在光作用下材料物性或外形发生...