在光刻工艺中,通过控制原始图形、光源直径和曝光时间等参数,可优化衍射极限附近的光刻工艺。首先,原始图形的生成需要选择一种优化边缘的编解码方式,即利用较低频率的图案将衍射现象消除。其次,通过优化光源直径、曝光时间等参数,可以缩小衍射极限附近的误差。最后,在实际光刻过程中,需要注意防抖动技术的使用,以确保光刻结...
衍射极限附近的光刻工艺豆瓣评分:9.2 简介:为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近 20 年的资深研发人员,作者肩负着协助光刻设
本书以光刻工艺为主线,有机地将光刻设备、光刻材料、光刻成像的理论计算、光刻工艺中各种建模思想和推导、芯片制造的技术发展要求以及对光刻工艺各项参数的要求紧密地联系在一起,给读者一个整体的图景。《衍射极限附近的光刻工艺》可供光刻技术领域科研院所的研究人员、大专院校的教师和学生、集成电路工厂的工程技术人员...
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《衍射极限附近的光刻工艺》是2020年2月清华大学出版社出版的图书，作者是伍强。内容简介 为了应对我国在集成电路领域,尤其是光刻技术方面严重落后于发达国家的局面,破解光刻制造设备、材料和光学邻近效应修正软件几乎完全依赖进口的困境,作为从事光刻工艺研发近 20 年的资深研发人员,作者肩负着协助光刻设备、材料和软件等...