近日,日本电子公司则提出了全新的蚀刻技术。它能够支持400层以上堆叠,是当前市面上其他芯片厂商使用的蚀刻技术所不能及的。新的蚀刻技术采用了石英玻璃混合的介质,通过激光微加工、电化学加工等手段,可以将芯片的层数扩增至400层。开发团队的新工艺首次将电介质蚀刻应用带入低温范围,从而打造了一个具有极高蚀刻率的系...
反应离子蚀刻的特点在于其高选择性,因为它可以蚀刻化学反应性物质。 此外,它还具有两个主要优点:首先,刻蚀膜中的分子键被粘合或断裂,使蚀刻速度更容易提高;其次,沉积在刻蚀膜上的聚合物和反应产物被蚀刻下来,使等离子体扩散回刻蚀膜中进行化学反应。这些再次沉淀的聚合物或化学反应产物不仅出现在被蚀刻的薄层上,还会...
在国内外先进技术基础上,我们先后自主研发推出的了大型(1220mm)不锈钢花板蚀刻机生产线、滚轮蚀刻机、立式蚀刻机、平曲面蚀刻机、圆盘蚀刻机、精密曝光机、显影生产线、水平电解退钛线等一系列先进的金属蚀刻、前处理设备和辅助设施。 能在不锈钢、铜、铁、铝等金属表面上蚀刻及镂空各种花纹图案,广泛应用于不锈钢金属蚀...
早期,蚀刻技术演变为两个部分——湿法蚀刻和干法蚀刻。在一个系统中,湿法蚀刻通过将晶圆浸没在液体溶液中来去除材料。 干法蚀刻是两个市场中较大的一个,广泛用于当今芯片的生产。干法蚀刻分为三个部分或模式——等离子蚀刻、反应离子蚀刻 (RIE) 和溅射蚀刻(又名离子束蚀刻)。每种模式用于不同的应用。 从技术上讲...
调整蚀刻气体成分:如增加氟气中的碳比例,以提高SiO2的选择比。 刻蚀工艺在芯片制造里应用 绝缘材料(如SiO2)的去除:用于形成绝缘层、浅沟槽隔离(STI)等。 栅极结构:在HKMG(High-K Metal Gate)工艺中,刻蚀金属栅极位置。 金属接触部分:在BEOL(Back End Of the Line)工艺中,刻蚀金属布线。
蚀刻指通过曝光制版、显影后,将要蚀刻区域的保护摸去处,在蚀刻时接触化学溶液,达到溶解腐蚀的作用,形成凹凸或者镂空成型的效果。最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版。蚀刻机可以分为化学蚀刻机及电解蚀刻机两类。 2019-06-26 16:02:48 芯片湿法蚀刻工艺 芯片湿法蚀刻工艺是一种在半导体制造中使用的关键技术,主要...
2022 年 2 月 9 日,Lam Research Corp宣布推出一套新的选择性蚀刻产品,该产品应用突破性的半导体制造技术和新型化学物质,以支持芯片制造商开发环栅 (GAA) 晶体管结构。Lam 的选择性蚀刻产品组合由三款新产品——Argos®、Prevos™ 和 Selis® 组成,在先进逻辑和存储半导体解决方案的设计和制造方面提供了强大...
最简单的解释就是光刻机把电路图投影到覆盖有光刻胶的硅片上面,刻蚀机再把刚才画了电路图的硅片上的多余电路图腐蚀掉,这样看起来似乎没什么难的,但是有一个形象的比喻,每一块芯片上面的电路结构放大无数倍来看比整个都复杂,这就是这光刻和蚀刻的难度。
最早可用来制造铜版、锌版等印刷凹凸版,也广泛地被使用于减轻重量(Weight Reduction)仪器镶板,铭牌及传统加工法难以加工之薄形工件等的加工;经过不断改良和工艺设备发展,亦可以用于航空、机械、化学工业中电子薄片零件精密蚀刻产品的加工,特别在半导体制程上,蚀刻更是不可或缺的技术。
朋友 我的 直播 放映厅 知识 游戏 二次元 音乐 美食 展开 重磅消息:华为申请"光刻"发明专利!网友: 华为真的在搞光刻机?华为光刻和蚀刻专利曝光!最新专利信息显示: 华为申请蚀刻和光刻发明专利,专利摘要显示,提供光刻装置方法,通过两次眼光提高工艺。据统计目前为止,华为累计申请3个蚀刻、7个光刻发明专利。业内: ...