专利摘要显示，根据实施例的金属氮化物薄膜的形成方法包括如下步骤：在形成处理空间的工艺腔室内准备基板；分别供给金属前驱体气体和含氮气体而在所述基板的上部形成金属氮化物薄膜；向所述工艺腔室供给含氢气体，形成第一等离子体而对所述金属氮化物薄膜执行至少一次以上的第一表面处理；及向所述工艺腔室供给含氮气体，形成第二等离子体而对...
薄膜水化法是目前常用的一种薄膜制备方法,其原理是利用水解作用使脂质分子自发地形成某一种结构,并在水中转化成稳定的自聚集薄膜。其步骤包括将磷脂溶解在有机溶剂中,加入一定量的水后通过水解作用形成自聚集薄膜。在此过程中,有机溶剂的挥发是实现均匀薄膜形成的关键步骤之一。 二、形成均匀...
把溶液中的溶质通过一层胶体膜通常由聚合物、陶瓷或聚硅氧烷进行过滤，使有机溶质可以通过并形成薄膜，而无机物不可透过。1、原理是将表面活性剂溶解于有机溶剂中，在溶液中混入水，使表面活性剂分子形成薄膜，然后通过水合作用将薄膜慢慢破裂。
本发明的一观点的薄膜形成方法,包括如下的步骤:在工艺腔室内在放置在基板支撑架的基板上通过气体喷射部供应含有金属的源气体及用于与所述源气体发生反应的反应气体,并且通过等离子体电源部供应电源,在所述工艺腔室内形成等离子体环境,进而在所述基板上将金属薄膜预沉积第一时间期间;切断所述等离子体电源部的电源,将所...
使用具有这样的结构进行的本发明的薄膜形成方法是下述的方 法将在上述等离子体生成空间内生成的所希望的活性种通过上述导 电性隔壁板的上述多个贯通孔导入到上述成膜处理空间,将从外部向 上述第一内部空间供给的材料气体通过上述多个材料气体扩散孔导 入到上述成膜处理空间,同时将从外部向上述第二内部空间供给的上理...
另外,在本发明的薄膜形成装置中,上述第一电极和上述第二电极也可以在大气压或者接近大气压的压力下,使上述放电空间内发生高频电场。 另一方面,在本发明的薄膜形成方法中,也可以由上述第一电极和上述第二电极,在大气压或者接近大气压的压力下,使上述放电空间内发生高频电场。
圆益IPS取得薄膜形成方法专利 金融界2024年12月7日消息，国家知识产权局信息显示，圆益IPS股份有限公司取得一项名为“薄膜形成方法”的专利，授权公告号 CN 114807893 B，申请日期为 2021 年 1 月。本文源自：金融界 作者：情报员
· 由 PV D 或 CV D 法形成的功能薄膜 ]7 e, 一一 ⋯ 学院 -f ‘ [摘要]主要对新近 由 PV D 或 CVD 法形成的几种功能薄膜 (包括: 超硬耐 膜、功 能高分 关键词:竺 —P V — D—C V — D 聩f 谨, 未。币量 . L引言 材料表面薄膜技术是赋予金属与非金属(玻璃、 陶瓷、 塑料等)...
向反应腔室内通入前驱体；在第一预设温度下向反应腔室通入第一气体，第一气体与前驱体反应生成中间体和第二气体；除去第二气体；在第二预设温度下向反应腔室通入第三气体，第三气体与中间体反应生成第四气体以及附着于半导体结构表面的目标薄膜。本公开的形成方法可避免阻塞管道，提高机台的产出速率，提高产量。