真空蒸镀，简称蒸镀，是指在真空条件下，采用一定的加热蒸发方式蒸发镀膜材料（或称膜料）并使之气化，粒子飞至基片表面凝聚成膜的工艺方法。蒸镀是使用较早、用途较广泛的气相沉积技术，具有成膜方法简单、薄膜纯度和致密性高、膜结构和性能独特等优点。原理 蒸镀的物理过程包括：沉积材料蒸发或升华为气态粒子→...
蒸发镀膜的原理 真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成：真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。将膜材置于真空镀膜室内，通过蒸发源加热使其蒸发，当蒸发分子的平均自由程大于真空镀膜室的线性尺寸时，蒸汽的原子和分子从蒸发源表面逸出后，在飞向基片表面过程中很少受到其他粒子（主要是残余气体分子）...
蒸发镀膜(evaporation):通过在真空中加热蒸发某种物质(常用材料形态为几个毫米的颗粒和丝材),使其产生金属蒸气沉积(凝聚)在固体表面成为薄膜。根据蒸发源的不同,可将其分为两类:①电阻热蒸发:蒸发源为电阻。用难熔金属如钨、钼、钽等制成舟箔或丝状,通电加热在其上方或在坩埚中的物质。②电子束蒸发:蒸发源为...
定义与基本概念 蒸发镀膜是一种物理气相沉积(PVD)技术,通过将固态材料加热到高温,使其蒸发成气态,然后在基片表面凝结形成薄膜。 物理蒸发过程的描述 在蒸发镀膜过程中,材料被置于真空环境中,通过热源加热,使其达到足够高的温度以蒸发。蒸发的气态原子或分子在真空环境中扩散,最后在基片表面凝结,形成均匀的薄膜。
真空技术在蒸发镀膜中至关重要，直接影响镀膜质量。真空度对蒸发质量的影响：高真空环境减少了空气中的杂质和水分子对蒸发材料的影响，避免了蒸发材料与残留气体的反应，提高了薄膜的纯度和质量。真空获得与测量：常用的真空获得方法包括机械泵、分子泵和扩散泵等。真空度的测量则依靠真空计，如皮拉尼真空计、冷阴极真空...
在航空航天领域，蒸发镀膜技术用于为航空器材提供防护涂层。热蒸发和电子束蒸发技术可以为高温部件提供耐高温和耐腐蚀的涂层。例如，钛合金和铝合金零部件的表面涂层可以提高其在恶劣环境中的耐久性和性能。军事光电系统中的应用 在军事领域，蒸发镀膜技术用于制造高性能的光电系统，如红外探测器、激光瞄准系统和夜视设备。
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蒸发镀膜是PVD真空镀膜方式的一种,其特点是在真空条件下,材料蒸发并在玻璃表面上凝结成膜,再经高温热处理后,在玻璃表面形成附着力很强的膜层。溅射镀膜和蒸发镀膜是目前最主流的两种 PVD 镀膜方式。 蒸发镀膜的原理 真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成:真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。将...