型号 聚焦离子束刻蚀工艺研究JL-VM200 价格说明 价格:商品在爱采购的展示标价,具体的成交价格可能因商品参加活动等情况发生变化,也可能随着购买数量不同或所选规格不同而发生变化,如用户与商家线下达成协议,以线下协议的结算价格为准,如用户在爱采购上完成线上购买,则最终以订单结算页价格为准。 抢购价:商品参与...
聚焦离子束（Focused Ion Beam,FIB）系统是在研究常规离子束和聚焦电子束系统的基础上发展起来的，它除了具备扫描电子显微镜所具备的成像功能以外，因为离子质量大，经过加速聚焦之后，还可以刻蚀，沉积材料及器件、离子注入和其他微纳加工从而在纳米科技领域中发挥着越来越大的影响。FIB的加工是通过离子束轰击样品表面来...
聚焦离子束能够直接、快速地对微纳米平面图形结构进行加工与制造，而对非晶体材料或者单质单晶材料进行FIB刻蚀往往能够获得很光滑的轮过形状与底面，而对多晶材料及多元化合物材料而言，因各晶粒取向的差异，不同晶粒区域刻蚀速率会有所不同，往往表现为非均匀刻蚀且底面不平。对于多晶材料刻蚀出现的非均匀性加工缺陷...
对聚焦离子束( FIB)的基本刻蚀性能进行了实验和l研究.通过扫描电镜对 FIB 刻蚀坑的观测 ,给出了在不同材料上(磁 、铝和二氧化硅) FIB 的刻蚀遮旦在及亥lj蚀坑的形貌同离子束流大小的关系.。由于不同材料的原子结合能、原子量在及晶体结构等因素对离子束溅射产额的影响 ,从而影 离子束的刻施速率;随着离子束...
10° 刻蚀侧壁的非垂直形貌 构造边缘不是垂直侧壁 Inlen are c The 预先用小驻留时间刻蚀方形结构 研究离子束强度的高斯分布 20x 0x 再沉积对结构形貌的影响 FIB的加工 GMA金警大验字 还可以刻蚀 十 因为离子质量大 + GMA金鉴实验室 GMA 离子束电流增大使入射离子剂量 GMA金警大验字 现代半导体制造业飞速...
离子束刻蚀技术的关键是聚焦粒子。聚焦粒子是指离子束中的离子在经过聚焦系统后,能够被聚焦到一个非常小的点上,从而实现对材料表面的高精度加工。聚焦粒子的聚焦系统通常由电子枪、磁铁和透镜等组成。其中,电子枪用于产生离子束,磁铁用于控制离子束的方向和强度,透镜用于将离子束聚焦到一个小点上。 离子束刻蚀技术的...
聚焦离子束(FIB)..FIB在光电子器件制造中的应用光电子器件,包括光电探测器、光纤通信组件、光波导等,对材料的加工精度和表面质量有着极高的要求。FIB技术在这些器件的制造过程中发挥着重要作用:1. 微纳结构的精确加工:F
二、项目名称:中国科学院合肥物质科学研究院聚焦离子束刻蚀机采购项目 三、中标(成交)信息 供应商名称:广东省中科进出口有限公司 供应商地址:广东省广州市越秀区先烈中路100号大院9号楼102房自编A一楼 中标(成交)金额:688.0000000(万元) 四、主要标的信息 ...
聚焦离子束刻蚀沉积系统是一种用于材料科学领域的分析仪器，于2010年11月18日启用。技术指标 电子束电压范围：350 V—30 kV；离子束电压范围：500 V—30 kV 电子束分辨率 @束交点：0.9 nm @ 15 kV，1.6 nm@ 5 kV，2.5 nm @ 1 kV 离子束分辨率 @束交点：5.0 nm @30 kV。主要功能 聚焦离子束加工...