总反射:镜面发射+漫反射,粉末样品的镜面反射很低,但在一些特定的,如光学涂层、光学镀膜等材料时就要考虑镜面反射的影响和测定。 图3 镜面反射和漫反射 总体来说,紫外设备通常主要还是测定相对总反射率或漫反射率,表示方法有R、R%、Reflection%。镜面反射可通过适配积分球的镜面反射端口消除,单独的镜面反射通过镜面反...
总反射:镜面发射+漫反射,粉末样品的镜面反射很低,但在一些特定的,如光学涂层、光学镀膜等材料时就要考虑镜面反射的影响和测定。 图3 镜面反射和漫反射 总体来说,紫外设备通常主要还是测定相对总反射率或漫反射率,表示方法有R、R%、Reflection%。镜面反射可通过适配积分球的镜面反射端口消除,单独的镜面反射通过镜面反...