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在台积电5纳米产线上,中微的刻蚀机正在和美国泛林集团贴身肉搏。当7纳米以下工艺需要把硅片雕刻出比病毒还细十万倍的结构时,中微的等离子体控制技术硬生生撕开30%的市场缺口。创始人尹志尧带着60岁创业团队的孤注一掷,让中国第一次在半导体核心设备领域拥有了定价权。这不是弯道超车,而是用专利丛林战轰出的血腥突破...
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在最近的科技研究中,来自Lam Research、科罗拉多大学博尔德分校及美国能源部普林斯顿等离子体物理实验室的团队联合开发了一种创新的蚀刻工艺。这项技术的核心便是利用氟化氢等离子体,将硅材料的垂直通道蚀刻效率提升了惊人的100%。这一进展标志着半导体制造工艺的一次重大飞跃,让电路设计和体积更加紧凑,推进了微电子产业向...