本书以集成电路领域中的等离子体刻蚀为切入点,介绍了等离子体基础知识、基于等离子体的刻蚀技术、等离子体刻蚀设备及其在集成电路中的应用。全书共8章,内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺、等离子体刻蚀机、等离子体测试和表征、等离子体仿真、颗粒...
赵晋荣主编 工业技术 / 电工电器 · 9.9万字更新时间:2023-12-12 20:04:59开会员,本书免费读 > 本书以集成电路领域中的等离子体刻蚀为切入点,介绍了等离子体基础知识、基于等离子体的刻蚀技术、等离子体刻蚀设备及其在集成电路中的应用。全书共8章,内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的...
刻蚀领域中最早应用的是容性耦合等离子体,采用的频率为13.56MHz。在20世纪90年代初,这些技术被用于90%以上的等离子体刻蚀。 一个典型的容性耦合等离子体反应器室结构如图2.6所示,电源被连接到源电极或偏置电极。在反应器中,所有与等离子体接触的表面形成鞘层,鞘层可以看作某种介电常数的电容器,即施加的功率是通过一...
作者:赵晋荣出版社:电子工业出版社出版时间:2023年02月 手机专享价 ¥ 当当价 降价通知 ¥68.80 定价 ¥98.00 配送至 辽宁沈阳市 至 北京市东城区 服务 由“盛文新华书店旗舰店”发货,并提供售后服务。 加入购物车 盛文新华书店旗舰店 进入店铺 收藏店铺 ...
当当网图书频道在线销售正版《等离子体刻蚀工艺及设备》,作者:赵晋荣,出版社:电子工业出版社。最新《等离子体刻蚀工艺及设备》简介、书评、试读、价格、图片等相关信息,尽在DangDang.com,网购《等离子体刻蚀工艺及设备》,就上当当网。
等离子体刻蚀工艺及设备 作者:赵晋荣主编 ISBN:978-7-121-45018-1 出版社:电子工业出版社 出版时间:2023.02 简介 本书共8章,内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺、等离子体刻蚀机、等离子体测试和表征、等离子体仿真、颗粒控制和量产。目录...
作者名: 赵晋荣主编本章字数: 221字更新时间: 2023-12-12 20:04:17 1.2.1 存储器IC 存储器是指利用电能方式存储信息的半导体介质设备,其存储与读取过程体现为电子的存储或释放,广泛应用于内存、U盘、消费电子、智能终端、固态存储硬盘等领域。存储器分类如图1.7所示。存储器根据断电后所存储的数据是否会丢失,可以...
苏宁易购为您提供最全的[正版] 等离子体刻蚀工艺及设备 赵晋荣 等离子体基础知识 集成电路等离子刻蚀 等离子体刻蚀设备参数配置、规格、性能、功能等详细信息。想了解更多[正版] 等离子体刻蚀工艺及设备 赵晋荣 等离子体基础知识 集成电路等离子刻蚀 等离子体刻蚀设备相关信
赵晋荣主编 工业技术·电工电器·0字 完本| 更新时间 本书以集成电路领域中的等离子体刻蚀为切入点,介绍了等离子体基础知识、基于等离子体的刻蚀技术、等离子体刻蚀设备及其在集成电路中的应用。全书共8章,内容包括集成电路简介、等离子体基本原理、集成电路制造中的等离子体刻蚀工艺、集成电路封装中的等离子体刻蚀工艺...