原子层沉积(ALD)技术制备的薄膜在纳米尺度精确可控,并且各处薄膜厚度具有良好的均匀性.空间隔离原子层沉积(SALD)相比于时间隔离ALD技术,此工艺更易实现大面积基底沉积和连续沉积.由于SALD技术巨大的应用前景,关于SALD技术的研究成为ALD技术研究的热点之一.本文介绍了实验室自主设计搭建的SALD系统平台,以Al2O3生长评估...
《面向柔性电子制造的空间隔离原子层沉积系统基础研究》是依托华中科技大学，由陈蓉担任项目负责人的面上项目。项目摘要 原子层沉积（ALD）薄膜制造方法因其优良的均匀一致性和厚度可控性，在柔性电子器件的封装层、功能层等具有突出表现和潜在应用。近年迅速发展的空间隔离原子层沉积（SALD）方法可以进一步满足柔性电子大...