通过使用两层光刻胶的叠层结构制备桥撑，其中位于下层不与空气桥直接接触的第光刻胶层的粘度较大，可以起到良好的支撑作用，保证空气桥具有大跨度，高尺寸；位于上层与空气桥直接接触的第二光刻胶层的粘度较小，可以有效减少桥撑的内部应力，从而避免在去胶后空气桥因应力的变化导致的形变、断裂等问题，保证空气桥...
由于桥与电路之间的介质为空气或者真空,所以称为空气桥或者真空桥,一般也会简称为空桥。 3.在制备空气桥的过程中,需要先制备出支撑物,以支撑桥梁,这部分支撑物称为桥撑。相关技术中,在空气桥的制备过程中,使用非光刻胶的桥撑(如二氧化硅、氧化锌等),在其上部沉积材料,再进行光刻胶的涂敷、曝光、显影,在空桥...
8、上述空气桥的制备方法,通过在基底上涂敷至少两层光刻胶层,进而通过对至少两层光刻胶层的至少两处桥区域进行曝光刻蚀处理,以在至少两处桥区域形成具有不同种桥撑结构的至少两种制桥结构,且在刻蚀不同种桥撑结构的桥顶区域时,分别采用能刻蚀到不同光刻胶层的曝光剂量,使得不同种桥撑结构分别包括不同光刻胶...
本发明公开了一种空气桥的制备方法,涉及量子芯片技术领域,包括以预设的曝光剂量分布对电子束光刻胶中的空气桥区域进行灰度曝光,在空气桥区域中形成桥撑结构;曝光剂量分布中,对应桥墩区域的曝光剂量大于对应桥面区域的曝光剂量,且从桥墩区域至桥面区域的曝光剂量均匀变化;空气桥区域外侧不进行曝光;在进行曝光之后,对电子...
空气桥的制备方法、空气桥结构及超导量子芯片 下载积分: 500 内容提示: (19)中华人民共和国国家知识产权局(12)发明专利申请(10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请号 202011309305.2(22)申请日 2020.11.20(71)申请人 腾讯科技(深圳)有限公司地址 518057 广东省深圳市南山区高新区科技中一路腾讯大厦35层 ...
空气桥制备方法、空气桥结构及芯片专利信息由爱企查专利频道提供,空气桥制备方法、空气桥结构及芯片说明:本发明公开了一种空气桥制备方法、空气桥结构及芯片,该空气桥制备方法,包括:在衬底上制作底层电路和第一...专利查询请上爱企查
金融界2024年2月6日消息，据国家知识产权局公告，腾讯科技（深圳）有限公司申请一项名为“空气桥的制备方法和超导量子芯片“，公开号CN117525805A，申请日期为2022年7月。专利摘要显示，本申请涉及一种空气桥的制备方法和超导量子芯片。所述方法包括：在基底上涂敷至少两层光刻胶层，且距离所述基底越远的光刻胶层...
本发明公开了一种空气桥的制备方法及空气桥,应用于量子芯片技术领域,包括:在衬底表面设置第一超导层并刻蚀,形成平面谐振腔电路的形貌;在平面谐振腔电路的表面设置覆盖传输线预设长度的桥墩;在桥墩表面设置跨置传输线,与端部相接触的第二超导层;在第二超导层表面沿传输线延伸方向设置多个释放孔;释放孔穿过第二超导层...
天眼查App显示,导语:河南仕佳光子科技股份有限公司于2024年11月20日申请了一项发明专利,专利名称为“一种EML激光器及空气桥的制备方法”,并于2025年2月18日正式公布,专利号为CN202411665006.0。 关键点: - 专利类型: 发明专利,涉及基本电气元件领域。