移相掩膜能让光刻图形的边缘更清晰,减少模糊和畸变,进而提高分辨率。例如在制造高性能芯片时,移相掩膜可将关键图形尺寸光刻得更精准。浸入式光刻技术是在光刻系统的物镜和硅片之间填充高折射率液体。利用液体的高折射率特性,改变光的传播路径,从而提高光刻分辨率。这种技术使得原本难以光刻出的微小尺寸图形成为可能,推动...
答:移相掩模的基本原理是在光掩模的某些透明图形上增加或减少一个透明的介质层,称移 相器,使光波通过这个介质层后产生180的相位差,与邻近透明区域透过的光波产生干涉, 抵消图形边缘的光衍效应,提高图形曝光分辨率。 移相层材料有两类。一类是有机膜,以抗蚀剂为主。另一类是无机膜,如二氧化硅。移相掩 模的移相方...
名词解释:光刻技术、正光刻胶、负光刻胶、PSM移相掩膜、OPC光学临界校正、离轴照明、浸入式光刻答:___图形化工艺中将设计好的图形从光刻板或背缩光刻板转印到晶
移相掩膜技术 移相掩膜的基本原理是在光掩膜的某些透明图形上增加或减少一个透明的介质层,称移相SCDS127T-150M-N器,使光波通过这个介质层后产生180°的相位差,与邻近透明区域透过的光波产生干涉,抵消图形边缘的光衍射效应,从而提高图形曝光分辨率。移相掩膜技术被认为是最有希望拓展光学光刻分辨率的技术之一。已经证明,...
移相掩膜2) Chromeless phase-shifting mask 无铬相移掩膜3) phase-shifting mask 相移掩模 1. Phase-shifting mask for 100nm node ArF excimer laser lithography; 用于100nm节点ArF准分子激光光刻的相移掩模技术 2. Process window improvement is presented due to off-axis illumination(OAI) and phase-...
本发明提供一种移相掩膜板的制造方法及其结构,所述方法包括以下步骤:在衬底上依次生长移相消光层,刻蚀保护层和金属层;在所述金属层上涂布第一光刻胶,刻蚀所述金属层;在所述刻蚀保护层上涂布第二光刻胶,刻蚀所述刻蚀保护层和所述移相消光层;去除所述第一光刻胶和所述第二光刻胶,并清洗所述移相消光层,本发明...
1.一种用于检测交变移相掩膜的相位和幅度误差的方法,此方法包括让准直光束通过该移相掩膜中的一对相邻的移相开孔;记录通过所述此对相邻开孔的衍射光光束强度作为角位置函数;根据所述记录的光束强度来确定在其上出现第一衍射级和第二衍射级的角α,其中,α代表从一对对称分布的衍射级的偏离;根据所述记录的光束强度...
1.一种移相掩膜板的制造方法,其特征在于包括以下步骤: 在衬底上依次生长移相消光层、刻蚀保护层和金属层; 在所述金属层上涂布第一光刻胶,刻蚀所述金属层; 在所述刻蚀保护层上涂布第二光刻胶,刻蚀所述刻蚀保护层和所述移相消光层; 去除所述第一光刻胶和所述第二光刻胶。 2.根据权利要求1所述的移相掩膜板...