离子轰击原理 离子轰击原理是指将离子束定向加速到高能量,然后使其撞击目标物质的过程。 离子轰击可以用于各种应用,例如材料表面改性、芯片制造、离子探针分析等。其中最常见的应用之一是用于材料表面改性。当离子束轰击物质表面时,离子的动能会被传递给物质中的原子和分子,从而引起物质的结构和性能的变化。 离子轰击所...
离子轰击原理是指当高速离子与固体表面相互作用时,产生的一系列物理过程和效应。这些效应不仅在材料表面处理、薄膜沉积、离子束辐照等方面有着广泛的应用,而且在核物理、等离子体物理等基础研究中也有着重要的意义。 首先,当高速离子撞击固体表面时,会发生能量转移和动量转移。这些转移过程会导致固体表面原子的激发、离子...
离子轰击清洗工艺就是利用气体放电原理,将工件放置在气体放电形成的等离子体中,通过放电粒子对工件表面进行轰击。气体等离子中包含的正离子、负离子、中性粒子、自由电子、光子和自由基等粒子,通过控制气体放电过程使等离子体轰击工件,可以消除表面附着的一些低分子物质,使其被电离、离解或解吸;同时其中一些高能载荷粒子所...
离子轰击电极的工作原理基于离子束撞击靶材的过程。当离子束撞击靶材时,靶材表面的原子会被剥离,并形成离子束。这些离子束会进一步撞击基板表面,从而刻蚀或改性基板。 二、离子轰击电极的应用领域 离子轰击电极可以用于各种材料的刻蚀和表面改性...
离子轰击清洗机是一种高效的清洗设备,通过产生离子束对物体表面进行轰击,从而去除表面的污染物。这种清洗方式在多个领域都有广泛应用,如半导体制造、精密机械加工等。 一、离子轰击清洗机的原理 离子轰击清洗机的工作原理主要是利用高能离子束对物体表面进行轰击...
离子源轰击是一种通过离子束轰击材料表面来产生金属蒸气的方法。离子源通常是一块金属,比如钨、钼或铬,离子束可以通过电子轰击或离子轰击的方式产生。离子束可以将离子源的表面弹开,让表面金属蒸气化并喷出。这种方法可以产生高纯度、高密度、高附着力的薄膜。 离子...
下面,我们就来了解一下离子轰击清洗的原理。 1.离子轰击清洗的原理 离子轰击清洗原理主要是利用离子束在高速入射目标物表面时所带来的能量,来破坏目标物表面的化学键和物理结构,从而实现清洗的目的。 离子清洗系统分为两部分,即离子源和样本。离子源向样本表面发射离子束,离子束可以通过自由空间到达样本表面。离子束的...
真空镀膜离子轰击原理主要涉及溅射镀膜过程。在这个过程中,高速离子束流轰击靶材表面,使靶材表面的原子被溅射出来并进入气相。这些溅射出来的原子随后沉积在基板上,形成薄膜。这个原理的关键在于入射离子与靶材之间的相互作用,以及溅射产额(即每个入射离子能溅射出的原子个数)。溅射产额越高,溅射速度越快。常用的溅射靶材...
离子轰击炉是把气体辉光放电的试验装置变为工业生产所需的设备,离子渗氮就是其中的一例。它是利用辉光放电形成等离子体在金属表面进行渗氮处理。 离子轰击处理过程大致分为以下几部分: (1)利用辅助加热源的热辐射加热工件,使工件上的油脂及其他挥发性物质汽化后被真空泵排出炉外,这一步只针对带辅助加热双热源离子氮...